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플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킨 진공 상태인 방에 위치하고 상기 플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킬 때 상기 발생한 플라즈마 중 적어도 일부가 증착되어 정전 용량이 변화하는 두 전극으로 구현된 제1 전극쌍; 두 전극으로 구현된 제2 전극쌍;상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍에 선택적으로 연결되며, 두 전극으로 구현된 제3 전극쌍;상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 플라즈마의 주파수와 적어도 일부의 겹치지 않는 범위의 주파수를 갖는 전압 신호를 발생시키고, 상기 제3 전극쌍이 상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍에 선택적으로 연결된 회로에 상기 발생한 전압 신호를 인가하는 신호 발생부;상기 제1 전극쌍의 두 전극 또는 상기 제2 전극쌍의 두 전극에 연결되며, 상기 플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킬 때 상기 제1 전극쌍의 정전 용량이 변하여, 변화된 정전 용량에 따라 상기 제1 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호의 크기가 미리 결정된 기준보다 클 경우, 상기 제1 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호의 크기를 제한하는 보호 회로부; 및상기 신호 발생부 및 상기 보호 회로부에 연결되며, 상기 보호 회로부로부터 전달되는 상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호를 필터링하는 잡음 제거부; 를 포함하며,상기 제3 전극쌍의 두 전극 중에서 일 전극은 상기 신호 발생부에 연결되고, 타 전극은 상기 보호 회로부에 연결되며, 상기 잡음 제거부는,상기 보호 회로부로부터 전달되는 전압 신호를 일정하게 유지하기 위하여 증폭을 하는 전치 증폭기;상기 증폭된 전압 신호를 필터링하는 대역 통과 필터;상기 필터링된 전압 신호의 위상과, 상기 적어도 일부의 겹치지 않는 범위의 주파수를 갖는 전압 신호의 위상간의 차이를 감지하여 잡음을 제거하는 위상 검파기;상기 잡음이 제거된 전압 신호를 필터링하는 저역 통과 필터;를 포함하며,상기 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마가 방전하면서 상기 제1 전극쌍에 형성된 정전 용량이 변하게 되고, 상기 정전 용량의 변화에 따라 상기 제1 전극쌍의 전압 신호가 변하게 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 보호 회로부는상기 전압 신호의 크기를 제한하거나, 또는 상기 제한된 전압 신호의 크기를 일정하게 유지하는 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 시스템
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플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킨 진공 상태인 방에 위치하고 상기 플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킬 때 상기 발생한 플라즈마 중 적어도 일부가 증착되어 정전 용량이 변화하는 두 전극으로 구현된 제1 전극쌍; 두 전극으로 구현된 제2 전극쌍;상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍에 선택적으로 연결되며, 두 전극으로 구현된 제3 전극쌍;상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 플라즈마의 주파수와 적어도 일부의 겹치지 않는 범위의 주파수를 갖는 전압 신호를 발생시키고, 상기 제3 전극쌍이 상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍에 선택적으로 연결된 회로에 상기 발생한 전압 신호를 인가하는 신호 발생부;상기 제1 전극쌍의 두 전극 또는 상기 제2 전극쌍의 두 전극에 연결되며, 상기 플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 발생시킬 때 상기 제1 전극쌍의 정전 용량이 변하여, 변화된 정전 용량에 따라 상기 제1 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호의 크기가 미리 결정된 기준보다 클 경우, 상기 제1 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호의 크기를 제한하는 보호 회로부; 상기 신호 발생부 및 상기 보호 회로부에 연결되며, 상기 보호 회로부로부터 전달되는 상기 제1 전극쌍 또는 상기 제2 전극쌍을 통하여 유입되는 전압 신호를 필터링하는 제1 잡음 제거부 및 제2 잡음 제거부;를 포함하며,상기 제3 전극쌍의 두 전극 중에서 일 전극은 상기 신호 발생부에 연결되고, 타 전극은 상기 보호 회로부에 연결되며, 상기 제1 잡음 제거부는, 상기 보호 회로부로부터 전달되는 전압 신호를 일정하게 유지하기 위하여 증폭을 하는 제1 전치 증폭기; 상기 증폭된 전압 신호를 필터링하는 제1 대역 통과 필터; 상기 필터링된 전압 신호의 위상과, 상기 적어도 일부의 겹치지 않는 범위의 주파수를 갖는 전압 신호의 위상간의 차이를 감지하여 잡음을 제거하는 제1 위상 검파기; 상기 잡음이 제거된 전압 신호를 필터링하는 제1 저역 통과 필터;를 포함하며,상기 제2 잡음 제거부는, 상기 보호 회로부로부터 전달되는 전압 신호의 위상을 변화시키는 위상변화기; 상기 위상이 변화된 전압 신호를 일정하게 유지하기 위하여 증폭을 하는 제2 전치 증폭기; 상기 증폭된 전압 신호를 필터링하는 제2 대역 통과 필터; 상기 필터링된 전압 신호의 위상과, 상기 적어도 일부의 겹치지 않는 범위의 주파수를 갖는 전압 신호의 위상간의 차이를 감지하여 잡음을 제거하는 제2 위상 검파기; 상기 잡음이 제거된 전압 신호를 필터링하는 제2 저역 통과 필터;를 포함하며,상기 위상변화기는 상기 제1 잡음 제거부를 통과한 전압 신호와 상기 제2 잡음 제거부를 통과한 전압 신호 간에 90도 만큼의 위상 차이가 생기도록 상기 보호 회로부로부터 전달되는 전압 신호의 위상을 변화시키며,상기 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마가 방전하면서 상기 제1 전극쌍에 형성된 정전 용량이 변하게 되고, 상기 정전 용량의 변화에 따라 상기 제1 전극쌍의 전압 신호가 변하게 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 시스템
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제 8항에 있어서, 상기 보호 회로부는상기 전압 신호의 크기를 제한하거나, 또는 상기 제한된 전압 신호의 크기를 일정하게 유지하는 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 시스템
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