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세라믹 분말, 광경화성 단량체, 분산제 및 광경화 개시제를 포함하며,상기 세라믹 분말의 부피는 40 내지 60 vol%이고, 함량은 슬러리 조성물 100 중량부에 대하여 60 내지 90 중량부이며,상기 광경화성 단량체는 우레탄 디메타크릴레이트(Diurethane dimethacrylate, UDMA) 및 트리에틸렌글리콜 디메타크릴레이트(Triethylene glycol dimethacrylate, TEGDMA)의 혼합물이고, 함량은 슬러리 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 35 중량부이며,상기 분산제의 함량은 슬러리 조성물 100 중량부에 대하여 1 내지 5 중량부이고,점도는 20 내지 700 Pa·s인 3D 플라팅용 세라믹 슬러리 조성물
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제 1 항에 있어서, 세라믹 분말은 수산화인회석(Hydroxy Apatite; HA), 불소 함유 수산화인회석(Fluoridated Hydroxy Apatite, FHA), 삼인산칼슘(tricalciumphosphate, TCP)의 인산 칼슘계 화합물(Calcium Phosphates), BCP(biphasic calcium phosphate), 알루미나(alumina), 지르코니아(zirconina), 실리카(silica) 및 바이오글래스로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 슬러리 조성물
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제 1 항에 있어서, 분산제는 알킬암모늄염 공중합체 화합물, 폴리에스터/폴리에테르(Polyester/polyether)계 화합물, 인산(Phosphoric acid)기를 함유한 공중합체 및 아민기를 가지는 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 슬러리 조성물
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제 1 항에 있어서, 광경화 개시제는 페닐비스(2,4,6-트리메틸 벤조일포스핀 옥사이드) (PPO), 1-하이드록시-사이클로헥실-펜닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온, 2-히드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로판온, 메틸벤조일포르메이트, 옥시-페닐-아세트산-2-[2-옥소-2-페닐-아세톡시-에톡시]-에틸 에스테르, 옥시-페닐-아세트산-2-[2-하이드록시-에톡시]-에틸 에스테르, 알파-디메톡시-알파-페닐아세토페논, 2-벤질-2-(디메틸아미노)1-[4-(4-모르폴리닐) 페닐]-1-부타논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 슬러리 조성물
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제 1 항에 있어서, 광경화 개시제의 함량은 슬러리 조성물 100 중량부에 대하여 0
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제 1 항에 따른 3D 플라팅용 세라믹 슬러리 조성물을 3D 플라팅을 이용하여 압출하여 세라믹 성형체를 제조하는 단계; 및 상기 세라믹 성형체를 열처리하는 단계를 포함하며, 상기 세라믹 슬러리 조성물은 압출 후 자외선 조사에 의해 광경화되는 세라믹 구조체의 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 슬러리 조성물은 150 내지 600 kPa의 압력으로 압출되며, 3D 플라팅의 노즐의 이동 속도는 4 내지 30 mm/s인 세라믹 구조체의 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 조사되는 자외선의 세기는 1 내지 5 W인 세라믹 구조체의 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 열처리는 80 내지 700℃에서 2 내지 15 시간 동안 1차 열처리를 수행한 후, 1000 내지 1500℃에서 1 내지 5 시간 동안 2차 열처리(소결)를 수행하는 세라믹 구조체의 제조 방법
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