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하기 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체; 및바이닐 아크릴기를 가지는 단량체; 의 중합에 의해 형성되는 고분자에 있어서,상기 고분자는 하기 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체 내 Q의 이중결합과, 상기 바이닐 아크릴기를 가지는 단량체 내 바이닐기가 중합 반응되어 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자:[화학식 1](상기 화학식 1에 있어서,X는 -NR3-, -O-, -S- 또는 -S(=O)2- 이고, 이때, 상기 R3는 수소, 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C5 알킬이고;L은 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C20 알킬렌이고;Q는 분자 내에 라디칼 중합성의 이중결합을 하나 이상 포함하는 광가교성 관능기이다)
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제1항에 있어서,X는 -NH-, -N(CH3)-, -N(CH2CH3)- 또는 -O- 이고;L은 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C2-C10 알킬렌이고;Q는 분자 내에 라디칼 중합성의 측쇄 바이닐기를 하나 이상 포함하는 광가교성 관능기인 것을 특징으로 하는 고분자
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제1항에 있어서,Q는 , , , , , , , , , 또는 인 것을 특징으로 하는 고분자
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삭제
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제1항의 고분자를 포함하는 광 굴절율 변조 중합체 조성물
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제1항의 고분자를 포함하는 홀로그램 기록용 조성물
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제6항에 있어서,상기 홀로그램 기록용 조성물은 400-600 nm의 파장을 흡수하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 기록용 조성물
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제6항의 홀로그램 기록용 조성물로 이루어진 기록층이 기판 위에 형성된 홀로그램 기록 매체
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제1항의 고분자로 박막으로 제조하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 제조된 박막에 레이저 회절무늬를 조사하는 단계(단계 2);를 포함하는 홀로그램 기록 방법
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제8항의 홀로그램 기록 매체에 홀로그램을 기록할 때 사용된 기준광만을, 상기 홀로그램 기록 매체에 조사하는 단계를 포함하는 홀로그램 재기록 방법
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