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실리콘 관통 전극 형성 방법

  • 기술번호 : KST2018014782
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비아 내부 충진은 신속하게 이루어지면서도 기판 표면에서의 증착은 억제할 수 있고 표면 결함 발생도 적은 실리콘 관통 전극 형성 방법은 아래와 같은 단계로 이루어진다. 실리콘 기판에 비아를 형성하는 단계; 상기 실리콘 기판에 제1억제제를 전사하는 단계; 및 상기 비아를 충진하는 단계.
Int. CL H01L 21/768 (2006.01.01) H01L 23/48 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180047746 (2018.04.25)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0120105 (2018.11.05) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020170053763   |   2017.04.26
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.04.25)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유봉영 경기 성남시 분당구
2 진상현 경기도 안산시 상록구
3 이진현 경기도 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한)유일하이스트 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, *층(역삼동, 옥산빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2018-0410041-47
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0435581-91
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.08.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0818046-67
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.08.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0818030-37
5 등록결정서
Decision to grant
2019.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0930672-70
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 기판에 비아를 형성하는 단계;상기 비아의 내벽과 기판의 표면에 시드층을 형성하는 단계;상기 기판 표면에 제1억제제를 전사하는 단계; 및 상기 제1억제제가 표면에 도포된 기판을, 제2억제제가 희석된 용액에 장입하여 상기 비아 내벽에 제2억제제를 흡착시키는 단계;상기 표면에는 제1억제제가 전사되고 비아 내벽에는 제2억제제가 흡착된 기판을 전해 증착함으로써 상기 비아를 충진하는 단계를 포함하며,상기 제1억제제 전사는, 캐리어에 제1억제제를 도포한 뒤 이를 상기 기판에 전사함으로써 이루어지며,상기 제1억제제는 상기 제2억제제보다 도금 억제 효과가 강한 것을 특징으로 하는 실리콘 관통 전극 형성 방법
2 2
삭제
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 제1억제제가 알칸티올계 물질인 것을 특징으로 하는 실리콘 관통 전극 형성 방법
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청구항 3에 있어서,상기 제1억제제가 옥탄티올(octanethiol), 데칸티올(decanethiol), 도데칸디올(dodecanethiol), 헥사데칸티올(hexadecanethiol), 옥타테칸티올(octadecanethiol) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 실리콘 관통 전극 형성 방법
5 5
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6 6
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7 7
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8 8
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9 9
청구항 4에 있어서, 상기 제2억제제가 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜인 것을 특징으로 하는 실리콘 관통 전극 형성 방법
10 10
삭제
11 11
청구항 1에 있어서, 상기 캐리어가 PDMS 재질인 것으로 특징으로 하는 실리콘 관통 전극 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 민간출연기관 (사)한국반도체연구조합 연구용역사업 / 연구용역사업 / 미래소자원천기술개발사업 [민간]High Aspect Ratio 미세 via 증착 기술