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리튬 이온을 흡장 및 방출할 수 있는 양극 활물질; 및상기 양극 활물질 상에 형성되고 하기 화학식1로 표시되는 화합물로 이루어진 코팅층;을 포함하는 전고체 전지용 양극소재
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제1항에 있어서,상기 M1은 니오븀(Nb)이고,상기 M2는 탄탈럼(Ta)이며,0
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제1항에 있어서,상기 양극 활물질은 리튬 전이금속 산화물인 전고체 전지용 양극소재
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제1항에 있어서,상기 양극 활물질은 표면에 수산기(hydroxyl group)을 갖는 것인 전고체 전지용 양극소재
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제1항에 있어서,상기 코팅층의 두께는 1㎚ 내지 100㎚인 전고체 전지용 양극소재
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제1항에 있어서,상기 코팅층의 함량은 상기 양극소재 100중량%에 대하여 0
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Li 전구체, M1 전구체 및 M2 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 전구체 용액을 준비하는 단계;상기 전구체 용액과 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 전구체 용액을 분무건조하여 코팅분말을 얻는 단계; 및상기 코팅분말을 열처리하는 단계;를 통해양극 활물질; 및 상기 양극 활물질 상에 형성되고, 이하의 화학식1로 표시되는 화합물로 이루어진 코팅층;을 포함하는 양극소재를 얻는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 알코올계 용매는 순도 99% 이상의 무수에탄올인 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 양극 활물질 분말은 산소 플라즈마로 처리되어 표면에 수산기(hydroxyl group)을 갖는 것인 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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10
제7항에 있어서,상기 분무건조는 분무건조 챔버와 포집 챔버를 포함하는 분무건조 장비를 이용하여 수행되고,상기 분무건조 챔버는 60℃ 내지 120℃의 온도로 조절되며,상기 포집 챔버는 100℃ 내지 150℃의 온도로 조절되는 조건에서 상기 분무건조가 수행되는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 코팅분말을 열처리하기 전 상기 코팅분말을 10분 내지 2시간 동안 15℃ 내지 25℃에서 건조하는 단계를 더 포함하는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 열처리는 대기 분위기에서 3시간 내지 5시간 동안 500℃ 내지 700℃의 온도로 수행되는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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리튬 이온을 흡장 및 방출할 수 있는 양극 활물질; 및상기 양극 활물질 상에 복수 개의 층으로 형성되고, 각 층이 하기 화학식2로 표시되는 화합물로 이루어진 코팅층;을 포함하는 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 코팅층은 상기 양극 활물질 상에 형성되고, 하기 화학식3으로 표시되는 화합물로 이루어진 제1코팅층; 및[화학식3]LiTaO3상기 제1코팅층 상에 형성되고, 하기 화학식4로 표시되는 화합물로 이루어진 제2코팅층을 포함하는 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 코팅층은 상기 양극 활물질 상에 형성되고, 하기 화학식4로 표시되는 화합물로 이루어진 제1코팅층; 및[화학식4]LiNbO3상기 제1코팅층 상에 형성되고, 하기 화학식3으로 표시되는 화합물로 이루어진 제2코팅층을 포함하는 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 양극 활물질은 리튬 전이금속 산화물인 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 양극 활물질은 표면에 수산기(hydroxyl group)을 갖는 것인 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 코팅층의 두께는 1㎚ 내지 100㎚인 전고체 전지용 양극소재
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제13항에 있어서,상기 코팅층의 함량은 상기 양극소재 100중량%에 대하여 0
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Li 전구체 및 M3 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 전구체 용액을 준비하는 단계;상기 전구체 용액과 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 전구체 용액을 분무건조하여 코팅분말을 얻는 단계;상기 코팅분말을 열처리하는 단계;상기 단계들을 복수 회 반복하되, 상기 양극 활물질 분말 대신 상기 열처리된 코팅분말을 사용하여 양극소재를 얻는 단계;를 통해양극 활물질; 및 상기 양극 활물질 상에 복수 개의 층으로 형성되고, 각 층이 하기 화학식2로 표시되는 화합물로 이루어진 코팅층을 포함하는 양극소재를 얻는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,Li 전구체, Ta 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 제1전구체 용액을 준비하는 단계;상기 제1전구체 용액과 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 제1전구체 용액을 분무건조하여 제1코팅분말을 얻는 단계;상기 제1코팅분말을 열처리하여 상기 양극 활물질 분말 상에 하기 화학식3으로 표시되는 화합물로 이루어진 제1코팅층을 형성하는 단계;[화학식3]LiTaO3Li 전구체, Nb 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 제2전구체 용액을 준비하는 단계;상기 제2전구체 용액과 제1코팅층이 형성된 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 제2전구체 용액을 분무건조하여 제2코팅분말을 얻는 단계; 및 상기 제2코팅분말을 열처리하여 상기 제1코팅층 상에 하기 화학식4로 표시되는 화합물로 이루어진 제2코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,Li 전구체, Nb 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 제1전구체 용액을 준비하는 단계;상기 제1전구체 용액과 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 제1전구체 용액을 분무건조하여 제1코팅분말을 얻는 단계;상기 제1코팅분말을 열처리하여 상기 양극 활물질 분말 상에 하기 화학식4로 표시되는 화합물로 이루어진 제1코팅층을 형성하는 단계;[화학식4]LiNbO3Li 전구체, Ta 전구체를 알코올계 용매에 용해하여 제2전구체 용액을 준비하는 단계;상기 제2전구체 용액과 제1코팅층이 형성된 양극 활물질 분말을 혼합하는 단계;상기 제2전구체 용액을 분무건조하여 제2코팅분말을 얻는 단계; 및 상기 제2코팅분말을 열처리하여 상기 제1코팅층 상에 하기 화학식3으로 표시되는 화합물로 이루어진 제2코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 알코올계 용매는 순도 99% 이상의 무수에탄올인 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 양극 활물질 분말은 산소 플라즈마로 처리되어 표면에 수산기(hydroxyl group)을 갖는 것인 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 분무건조는 분무건조 챔버와 포집 챔버를 포함하는 분무건조 장비를 이용하여 수행되고,상기 분무건조 챔버는 60℃ 내지 120℃의 온도로 조절되며,상기 포집 챔버는 100℃ 내지 150℃의 온도로 조절되는 조건에서 상기 분무건조가 수행되는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 코팅분말을 열처리하기 전 상기 코팅분말을 10분 내지 2시간 동안 15℃ 내지 25℃에서 건조하는 단계를 더 포함하는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 열처리는 대기 분위기에서 3시간 내지 5시간 동안 500℃ 내지 700℃의 온도로 수행되는 전고체 전지용 양극소재의 제조방법
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