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(a) 웨이퍼 세정 공정 후에, 기판 상에 SiO2 패시베이션 층이 저압 화학 기상 증착(LPCVD)에 의해 증착(SiO2 deposition)하는 단계; (b) 상기 기판과 후속 전기 도금된 Cu/Au 금속 사이의 금속 부착을 개선하기 위해 Ti/Au는 시드 금속으로 스퍼터링(Ti/Au Seed Metal sputtering)되는 단계; (c) 포토 레지스트(PR)를 사용하여 Cu/Au 금속의 구조를 형성하는 단계; (d) 상기 Cu/Au 금속을 전기 도금하여 패치 바이오 센서의 패턴을 형성하는 단계; (e) 형성된 포토 레지스트(PR)를 리프트 오프(lift-off) 기계에서 아세톤 용액을 사용하여 PR을 제거하는 단계; (f) 상기 시드 금속을 제거하여 단락 문제를 방지할 수 있도록 Ar에서 유도 결합 플라즈마 에칭 기(inductively coupling plasma etcher)와 반응성 이온 식각(reactive ion etching, RIE) 공정을 사용하여 친수성 처리(hydrophilic treatment)에 의해 후면 슬롯(backside slot)을 갖는 RF 패치 바이오 센서를 형성하는 단계; 및(g) 상기 친수성 처리 후에, SU-8 코팅하고, 좌측부와 우측부에 각각 SU-8을 형성하여 전면 탱크(front-side tank)를 갖는 RF 패치 바이오 센서를 제조하는 단계;를 포함하며, 상기 RF 패치 바이오 센서는 글루코스 농도의 무선 주파수(RF)를 검출하기 위해 프로브 스테이션(probe station)이 사용되며, 공진주파수 변화 및 S11 크기 변화를 측정하며, 상기 RF 패치 바이오 센서의 주파수 응답은 10~25 GHz의 주파수 범위에서 측정되는, 체적 고정 구조들과 결합된 RF 패치 바이오 센서를 기반 글루코스 레벨의 정량적 검출 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (a)에서 상기 기판은 400 ㎛의 실리콘 기판을 사용하며, 상기 SiO2 패시베이션 층은 200 nm의 두께를 갖는 SiO2 패시베이션 층을 형성하는, 체적 고정 구조들과 결합된 RF 패치 바이오 센서를 기반 글루코스 레벨의 정량적 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 단계 (b)에서, 상기 Ti/Au는 20/80 nm의 두께를 갖는, 체적 고정 구조들과 결합된 RF 패치 바이오 센서를 기반 글루코스 레벨의 정량적 검출 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (c)에서, 상기 Cu/Au 금속은 두께가 4
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제1항에 있어서, 상기 후면 슬롯(backside slot) 구조를 형성하기 위해 Bosch deep RIE가 샘플 패치에 적용되어 슬롯 구조가 완성되며, 250 sccm의 SF6, 압력이 4
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제1항에 있어서, 샘플 패치를 기반으로 전면 탱크 구조를 구성하기 위해 SU-8 2100이 네거티브 포토레지스트(negative photoresist)가 선택되어 안정된 탱크 구조를 형성하며, 먼저, 친수성 처리가 수행된 후, 음이온 SU-8 2100 PR의 코팅 전에 N2H2/O2 플라즈마 표면 처리가 적용되고, 100℃의 온도와 300rpm의 회전 속도(spin speed)에서 10 rpm/s의 가속도로 120초 동안 코팅된 SU-8 2100에 대해 우수한 밀도(density)와 거칠기(roughness)를 얻을 수 있으며, 그후 소프트 베이크(65℃, 5 UV 조사(240 mJ/cm2), 노광 후 베이크(95℃, 5분), 현상(SU-8 현상액, 30분), DI 세척 및 하드 베이킹(150℃, 20분)을 수행함으로써 최종적으로 SU-8 전면 탱크(SU-8 front-side tank) 구조가 종횡비(high aspect ratio)와 높이(height) 및 폭(width)의 예상 치수로 제조되며, 길이(length), 폭(width) 및 기판 높이(substrate height)의 고정 값을 갖는 주어진 RF 패치 바이오 센서에 대해, 상기 RF 패치 바이오 센서의 공진 주파수는 유효 유전 상수 εreff에 비례하는, 체적 고정 구조들과 결합된 RF 패치 바이오 센서를 기반 글루코스 레벨의 정량적 검출 방법
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제1항에 있어서, 상기 전면 탱크는 길이와 너비가 3
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제1항에 있어서, 상기 글루코스 농도의 무선 주파수(RF) 검출은 상기 RF 패치 바이오 센서의 공진 주파수 및 신호의 진폭에서의 변화를 측정하기 위해, 프로브 스테이션(probe station)이 사용되며, 글루코스 램플을 mLINE 피펫(mLINE pipette: 0
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삭제
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제8항에 있어서, 상기 글루코스 샘플의 측정 온도와 상대 습도는 각각 22
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제8항에 있어서, 상기 글루코스 샘플의 RF 측정 후 상기 후면 슬롯과 상기 전면 탱크를 인산염 완충 식염수(phosphate-buffered saline, PBS)를 먼저 휑군 다음, 탈 이온수(DI water)를 사용하여 여러 번 세척하여 다음 샘플을 측정하기 전에 이전 글루코스 샘플을 제거하여 상기 RF 패치 바이오 센서를 재사용하는, 체적 고정 구조들과 결합된 RF 패치 바이오 센서를 기반 글루코스 레벨의 정량적 검출 방법
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제8항에 있어서, 상기 RF 패치 바이오 센서는 후면 슬롯(0
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