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전기수력학적 제트 프린팅 또는 에어로졸 제팅 장치를 통해 전압 포텐셜을 이용하여 토출되는 전도성 잉크로 베이스 기판 상에 일정한 패턴을 가지는 제1 패턴을 형성하는 단계;상기 제1 패턴 상에 레이저를 인가하여 상기 전도성 잉크를 소결시켜, 상기 제1 패턴이 가지는 일정한 패턴에서 보다 좁은 영역을 가지는 제2 패턴을 형성하는 단계; 및상기 소결된 제2 패턴 외에 상기 베이스 기판 상에 잔류한 상기 제1 패턴을 제거하는 단계를 포함하고, 상기 제2 패턴을 형성하는 단계와 상기 제1 패턴을 제거하는 단계는, 동일한 패턴형성유닛을 이용하되, 상기 제1 패턴을 제거하기 위한 레이저의 에너지를 상기 제2 패턴을 형성하기 위한 레이저의 에너지보다 크게 인가하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 제1 패턴은 상기 베이스 기판 상에 직선이나 곡선, 면(面) 또는 3차원 아치(arch)로 형성되는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 제2 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 제2 패턴은 상기 제1 패턴이 형성된 영역 내에서 직선이나 곡선, 면(面) 또는 3차원 아치(arch)로 형성되는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 패턴을 제거하는 단계에서, 상기 제2 패턴 외에 상기 베이스 기판 상에 잔류한 상기 제1 패턴에 레이저를 선택적으로 인가하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
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공급된 베이스 기판 상에 전도성 잉크로 일정한 패턴을 가지는 제1 패턴을 형성하는 제1 패턴형성유닛; 상기 베이스 기판 상에 형성된 제1 패턴 상에 레이저를 인가하여 상기 전도성 잉크를 소결시켜, 상기 제1 패턴이 가지는 일정한 패턴에서 보다 좁은 영역을 가지는 제2 패턴을 형성하는 제2 패턴형성유닛; 및상기 소결된 제2 패턴 외에 상기 베이스 기판 상에 잔류한 상기 제1 패턴을 제거하는 세정유닛을 포함하고, 상기 세정유닛은 상기 제2 패턴형성유닛과 동일하되, 상기 제1 패턴을 제거하기 위한 레이저의 에너지를 상기 제2 패턴을 형성하기 위한 레이저의 에너지보다 크게 인가하고, 상기 제1 패턴형성유닛은 전기수력학적 제트 프린팅 또는 에어로졸 제팅 장치로, 전압 포텐셜을 이용하여 전도성 잉크를 토출하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
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제6항에 있어서, 상기 제2 패턴형성유닛은, 상기 제1 패턴 상에 레이저를 선택적으로 인가하여 상기 제2 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
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제6항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 유연성(flexible or stretchable) 기판인 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
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제6항에 있어서, 상기 전도성 잉크는, 반도체가 분말로 포함된 반도체 잉크 또는 금속이 분말로 포함된 금속 잉크로, 레이저의 인가에 따라 소결되어 전도성을 가지는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
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공급된 베이스 기판 상에 전도성 잉크로 일정한 패턴을 가지는 제1 패턴을 형성하는 제1 패턴형성유닛; 및상기 베이스 기판 상에 형성된 제1 패턴 상에 레이저를 인가하여 상기 전도성 잉크를 소결시켜 상기 제1 패턴이 가지는 일정한 패턴에서 보다 좁은 영역을 가지는 제2 패턴을 형성하고, 상기 제2 패턴 외에 상기 베이스 기판 상에 잔류한 상기 제1 패턴에 레이저를 선택적으로 인가는 제2 패턴형성유닛을 포함하고, 상기 제2 패턴형성유닛은 상기 잔류한 제1 패턴을 제거하는 세정유닛이며, 상기 제1 패턴을 제거하기 위한 레이저의 에너지를 상기 제2 패턴을 형성하기 위한 레이저의 에너지보다 크게 인가하고, 상기 제1 패턴형성유닛은 전기수력학적 제트 프린팅 또는 에어로졸 제팅 장치로, 전압 포텐셜을 이용하여 전도성 잉크를 토출하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
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