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이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매에 있어서,상기 촉매는 알루미나 표면을 인으로 표면 개질시킨 인-알루미나 지지체에 활성성분으로 코발트를 담지한 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매
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제1항에 있어서,상기 인-알루미나 지지체는 인-알루미나 지지체 총 중량에 대하여, 인이 0
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제1항에 있어서,상기 촉매는 촉매 총중량에 대하여, 코발트가 1 중량% ~ 10 중량%로 담지되어 있는 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매
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제1항에 있어서,상기 알루미나는 비표면적이 10 m2/g ~ 300 m2/g인 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매
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(a) 인 전구체로 알루미나를 표면 개질시킨 후, 소성하여 인-알루미나 지지체를 수득하는 단계; 및(b) 상기 수득된 인-알루미나 지지체에 코발트 전구체를 담지시킨 후, 소성하여 촉매를 제조하는 단계를 포함하는, 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 인 전구체는 인산(H3PO4), 포스포러스 옥시클로라이드(POCl3), 포스포러스 펜톡사이드(P2O5), 암모늄 다이하이드로젠 포스페이트(NH4H2PO4), 다이암모늄 포스페이트((NH4)2HPO4), 트리에틸 포스페이트((C2H5)3PO4) 및 포스포러스 트리클로라이드(PCl3)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코발트 전구체는 Co(NO3)2, Co(OH)2, CoCl2, CoSO4, Co2(SO4)3, CoF3 및 CoCO3으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매의 제조방법
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8
제5항에 있어서,상기 인-알루미나 지지체는 인-알루미나 지지체 총 중량에 대하여, 인이 0
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제5항에 있어서, 상기 촉매는 촉매 총중량에 대하여, 코발트가 1 중량% ~ 10 중량%로 담지되어 있는 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 (a) 단계의 소성과 (b)단계의 소성은 300 ℃ ~ 900 ℃에서 1 ~ 12 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소를 이용한 메탄 개질 반응용 촉매의 제조방법
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 촉매를 이용하여 메탄과 이산화탄소를 포함하는 가스로부터 합성가스를 제조하는 합성가스의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 촉매는 600 ℃ 내지 900 ℃의 반응온도, 0
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