| 1 |
1
원통 형상의 측벽 및 상기 측벽의 상단을 덮는 덮개판을 포함하며 내부에 방전 공간을 가지는 절연체와, 상기 측벽의 외면에 위치하는 원통 형상의 고전압 전극과, 상기 고전압 전극과 이격되며 상기 측벽의 개방된 하단에 결합된 접지 전극을 포함하는 플라즈마 발생부;상기 접지 전극의 하부에 위치하고, 개구에 의해 상기 방전 공간과 통하는 내부 공간을 가지며, 받침대를 수용하고, 진공 펌프와 연결된 배기 포트를 포함하는 챔버; 및상기 절연체와 상기 챔버 중 어느 하나에 접속되어 멸균을 위한 증기를 공급하는 유입 포트를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 측벽의 하단을 둘러싸는 수직부와, 상기 수직부로부터 내측을 향해 확장된 고리 형상의 수평부를 포함하며,상기 측벽의 길이 방향을 따라 측정된 상기 고전압 전극의 하단과 상기 수평부 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최소 간격을 이루고, 상기 고전압 전극의 상단과 상기 수평부의 내측 단부 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최대 간격을 이루며,상기 플라즈마 발생부가 생성하는 플라즈마는 상기 챔버의 압력 변화에 따라 상기 최소 간격이 설정된 부분과 상기 최대 간격이 설정된 부분 사이에서 발생 위치가 변하는 플라즈마 멸균기
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 챔버의 개구는 제1 개구이고,상기 수평부의 중앙에 제2 개구가 위치하며,상기 제1 개구는 상기 제2 개구보다 큰 직경을 가지는 플라즈마 멸균기
|
| 3 |
3
원통 형상의 측벽 및 상기 측벽의 상단을 덮는 덮개판을 포함하며 내부에 방전 공간을 가지는 절연체와, 상기 측벽의 외면에 위치하는 원통 형상의 고전압 전극과, 상기 고전압 전극과 이격되며 상기 측벽의 개방된 하단에 결합된 접지 전극을 포함하는 플라즈마 발생부;상기 접지 전극의 하부에 위치하고, 개구에 의해 상기 방전 공간과 통하는 내부 공간을 가지며, 받침대를 수용하고, 진공 펌프와 연결된 배기 포트를 포함하는 챔버; 및상기 절연체와 상기 챔버 중 어느 하나에 접속되어 멸균을 위한 증기를 공급하는 유입 포트를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 측벽의 하단을 둘러싸는 수직부와, 상기 수직부로부터 내측을 향해 확장된 고리 형상의 경사부를 포함하며, 상기 경사부의 상면은 수평 방향을 따라 상기 측벽으로부터 멀어질수록 아래로 경사지고,상기 고전압 전극의 하단과 상기 경사부 상면의 상단 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최소 간격을 이루고, 상기 고전압 전극의 상단과 상기 경사부 상면의 하단 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최대 간격을 이루며,상기 플라즈마 발생부가 생성하는 플라즈마는 상기 챔버의 압력 변화에 따라 상기 최소 간격이 설정된 부분과 상기 최대 간격이 설정된 부분 사이에서 발생 위치가 변하는 플라즈마 멸균기
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 챔버의 개구는 제1 개구이고,상기 경사부의 중앙에 제3 개구가 위치하며,상기 제1 개구는 상기 제3 개구보다 큰 직경을 가지는 플라즈마 멸균기
|
| 5 |
5
원통 형상의 측벽 및 상기 측벽의 상단을 덮는 덮개판을 포함하며 내부에 방전 공간을 가지는 절연체와, 상기 측벽의 외면에 위치하는 원통 형상의 고전압 전극과, 상기 고전압 전극과 이격되며 상기 측벽의 개방된 하단에 결합된 접지 전극을 포함하는 플라즈마 발생부;상기 접지 전극의 하부에 위치하고, 제1 개구에 의해 상기 방전 공간과 통하는 내부 공간을 가지며, 받침대를 수용하고, 진공 펌프와 연결된 배기 포트를 포함하는 챔버; 및상기 절연체와 상기 챔버 중 어느 하나에 접속되어 멸균을 위한 증기를 공급하는 유입 포트를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 측벽의 하단을 둘러싸는 수직부와, 상기 수직부의 하단에 연결되며 상기 제1 개구를 덮는 다공판을 포함하며,상기 측벽의 길이 방향을 따라 측정된 상기 고전압 전극의 하단과 상기 다공판 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최소 간격을 이루고, 상기 고전압 전극의 상단과 상기 다공판의 중앙부 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최대 간격을 이루며,상기 플라즈마 발생부가 생성하는 플라즈마는 상기 챔버의 압력 변화에 따라 상기 최소 간격이 설정된 부분과 상기 최대 간격이 설정된 부분 사이에서 발생 위치가 변하는 플라즈마 멸균기
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 다공판에 복수의 제4 개구가 위치하고,상기 제1 개구는 상기 다공판 중 상기 복수의 제4 개구가 위치하는 영역의 직경보다 큰 직경을 가지는 플라즈마 멸균기
|
| 7 |
7
원통 형상의 측벽 및 상기 측벽의 상단을 덮는 덮개판을 포함하며 내부에 방전 공간을 가지는 절연체와, 상기 측벽의 외면에 위치하는 원통 형상의 고전압 전극과, 상기 측벽과 거리를 두고 상기 측벽의 하부에 위치하는 판 형상의 접지 전극을 포함하는 플라즈마 발생부;상기 측벽의 개방된 하단에 결합되며, 제1 개구에 의해 상기 방전 공간과 통하는 내부 공간을 가지며, 상기 접지 전극과 받침대를 수용하고, 진공 펌프와 연결된 배기 포트를 포함하는 챔버; 및상기 절연체와 상기 챔버 중 어느 하나에 접속되어 멸균을 위한 증기를 공급하는 유입 포트를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 제1 개구와 상기 받침대 사이에 위치하고, 상기 제1 개구보다 큰 직경을 가지며,상기 측벽의 길이 방향을 따라 측정된 상기 고전압 전극의 하단과 상기 접지전극 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최소 간격을 이루고, 상기 고전압 전극의 상단과 상기 접지 전극의 중앙부 사이의 거리가 상기 고전압 전극과 상기 접지 전극간 최대 간격을 이루며,상기 플라즈마 발생부가 생성하는 플라즈마는 상기 챔버의 압력 변화에 따라 상기 최소 간격이 설정된 부분과 상기 최대 간격이 설정된 부분 사이에서 발생 위치가 변하는 플라즈마 멸균기
|
| 8 |
8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 멸균을 위한 증기는 과산화수소 증기를 포함하는 플라즈마 멸균기
|
