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35 몰% 이상 60 몰% 이하의 산화 붕소; 10 몰% 이상 25 몰% 이하의 산화 칼슘; 및1 몰% 이상 20 몰% 이하의 산화 알루미늄을 포함하고,산화 규소(SiO2)를 포함하지 않는 유리 매질; 및 방사성 희토류 폐기물을 포함하는 붕산 유리 고화체
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제1항에 있어서, 1 중량% 이상 57 중량% 이하의 상기 방사성 희토류 폐기물을 포함하는, 붕산 유리 고화체
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제1항에 있어서,상기 방사성 희토류 폐기물은, 란타넘(Lanthanum, La), 세슘(Cesium, Ce), 프라세오디뮴(Praseodymium, Pr), 네오디뮴(Neodymium, Nd), 프로메튬(Promethium, Pm), 사마륨(Samarium, Sm), 유로퓸(Europium, Eu), 가돌리늄(Gadolinium, Gd), 테르븀(Terbium, Tb), 디스프로슘(Dysprosium, Dy), 홀뮴(Holmium, Ho), 에르븀(Erbium, Er), 툴륨(Thulium, Tm), 터븀(Terbium, Tb), 루테튬(Lutetium, Lu) 및 이트륨(Yttrium, Y) 산화물으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는, 붕산 유리 고화체
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(1) 방사성 희토류 폐기물을 용융로에 투입하는 단계;(2) 상기 방사성 희토류 폐기물을 유리화시키기 위한 유리 매질을 상기 용융로에 투입하는 단계;(3) 상기 방사성 희토류 폐기물과 상기 유리 매질을 함께 용융시켜 용융물을 제조하는 단계; 및 (4) 상기 용융물을 고화시켜 붕산 유리 고화체를 제조하는 단계를 포함하고,상기 (2) 단계의 상기 유리 매질은, 35 몰% 이상 60 몰% 이하의 산화 붕소; 10 몰% 이상 25 몰% 이하의 산화 칼슘; 및1 몰% 이상 20 몰% 이하의 산화 알루미늄을 포함하고,산화 규소(SiO2)를 포함하지 않는 붕산 유리 고화체의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 방사성 희토류 폐기물은, 란타넘(Lanthanum, La), 세슘(Cesium, Ce), 프라세오디뮴(Praseodymium, Pr), 네오디뮴(Neodymium, Nd), 프로메튬(Promethium, Pm), 사마륨(Samarium, Sm), 유로퓸(Europium, Eu), 가돌리늄(Gadolinium, Gd), 테르븀(Terbium, Tb), 디스프로슘(Dysprosium, Dy), 홀뮴(Holmium, Ho), 에르븀(Erbium, Er), 툴륨(Thulium, Tm), 터븀(Terbium, Tb), 루테튬(Lutetium, Lu) 및 이트륨(Yttrium, Y) 산화물으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는, 붕산 유리 고화체의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 (3)단계의 상기 용융물은 1 중량% 이상 57 중량% 이하의 상기 방사성 희토류 폐기물을 포함하고, 나머지는 상기 유리 매질인, 붕산 유리 고화체의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 (3)단계는,상기 용융로 내의 온도를 1100℃ 이상 1400℃ 이하로 승온시켜 상기 방사성 희토류 폐기물과 상기 유리 매질을 용융시키는, 붕산 유리 고화체의 제조 방법
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