| 1 |
1
삭제
|
| 2 |
2
하기 화학식 1로 표시되는 공중합체로서,t-뷰틸아크릴아마이드(tBAAm) 및 N-아이소프로필아크릴아마이드(NIPAAm)의 단량체 비율은 1 : 1
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
제2항에 있어서,상기 용매는 증류수, C4 내지 C6의 알코올, C4 내지 C6의 글리콜, C4 내지 C10의 에테르, C3 내지 C10의 에스테르, C3 내지 C10의 케톤 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
|
| 5 |
5
제2항에 있어서,상기 용매는 에틸렌 글리콜 수용액이고, 상기 에틸렌 글리콜 수용액의 농도가 0
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 조성물의 하한 임계 용액 온도는 4 내지 23℃ 인 것을 특징으로 하는 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
|
| 7 |
7
(1) t-뷰틸아크릴아마이드, N-아이소프로필아크릴아마이드 및 사슬 전이제(chain transfer agent)를 이용하여 가역적 첨가 분열 사슬전이(reversible addition-fragmentation chain transfer; RAFT) 중합 반응하는 단계; (2) 상기 중합된 중합체의 말단에 결합된 사슬 전이제를 제거하고 t-뷰틸아크릴아마이드 : poly(tBAAm-co-NIPAAm) 의 단량체 비율을 1 : 1
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 t-뷰틸아크릴아마이드(tBAAm) 및 N-아이소프로필아크릴아마이드(NIPAAm)는 1 : 1
|
| 9 |
9
제7항에 있어서,상기 용매는 증류수, C4 내지 C6의 알코올, C4 내지 C6의 글리콜, C4 내지 C10의 에테르, C3 내지 C10의 에스테르, C3 내지 C10의 케톤 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물의 제조방법
|
| 10 |
10
제7항에 있어서,상기 용매는 에틸렌 글리콜 수용액이고, 상기 에틸렌 글리콜 수용액의 농도가 0
|
| 11 |
11
제2항, 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 사용하여 가스 하이드레이트 생성을 억제하는 방법
|
