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양전자 빔 집속 장치 및 이를 이용한 양전자 현미경

  • 기술번호 : KST2018015771
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 본 발명은 양전자 빔 집속 장치 및 이를 이용한 양전자 현미경에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 양전자 빔 집속 장치는 제 1 차 에너지의 양전자 빔이 입사되고, 상기 입사된 제 1 차 에너지의 양전자 빔을 제 2 차 에너지의 양전자 빔으로 감속시키는 감속재 박막; 및 상기 감속재 박막과 소정거리 이격 되고, 상기 감속재 박막을 둘러싸도록 형성되며, 상기 감속재 박막의 말단부와 대응되는 위치에 형성된 홀(aperture)을 포함하는 서프레서를 포함하되, 상기 감속재 박막의 말단부는 첨예하도록 형성되고 상기 첨예한 말단부 및 상기 홀을 통해 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔을 집속시키는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01J 37/28 (2006.01.01)
CPC H01J 37/28(2013.01)
출원번호/일자 1020170065038 (2017.05.26)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0129263 (2018.12.05) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.05.26)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조양구 대한민국 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 아이퍼스 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2017-0502647-40
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.05.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0071201-63
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0357517-36
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-0750826-56
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0840735-33
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.24 수리 (Accepted) 1-1-2018-0840734-98
8 등록결정서
Decision to grant
2018.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0833800-96
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양전자 빔 집속장치에 있어서,제 1 차 에너지의 양전자 빔이 입사되고, 상기 입사된 제 1 차 에너지의 양전자 빔을 제 2 차 에너지의 양전자 빔으로 감속시키는 감속재 박막; 및상기 감속재 박막과 소정거리 이격되고, 상기 감속재 박막을 둘러싸도록 형성되며, 상기 감속재 박막의 말단부와 대응되는 위치에 형성된 홀(aperture)을 포함하는 서프레서를 포함하되, 상기 감속재 박막의 말단부는 첨예하도록 형성되고 상기 첨예한 말단부 및 상기 홀을 통해 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔을 집속시키며,방사선 동위원소의 β+붕괴에 의해 제 1 에너지의 양전자를 방출하여, 상기 감속재 박막을 향해 입사시키는 양전자원을 더 포함하고, 상기 입사된 상기 제 1 에너지의 양전자에 의해, 상기 감속재 박막은 제 2 에너지의 양전자를 재방출시키며,상기 감속재 박막 및 상기 서프레서에 바이어스 전압을 인가시키는 전압 인가 장치를 더 포함하고,상기 전압 인가장치는 상기 감속재 박막 및 상기 서프레서에 양이나 음의 바이어스 전압을 인가시키며,상기 감속재 박막으로부터 재방출된 상기 제 2 에너지의 양전자는상기 서프레서에 인가된 양의 바이어스 전압에 의한 쿨롱 척력에 의해 상기 홀을 통해 빠져나오되, 상기 홀의 외부에 빔 교차를 통해 생성되는 크로스 오버 포인트를 기반으로 크로스 오버되어 상기 홀의 직경과 비례하는 스팟 사이즈를 가지는 양전자 빔을 형성하는 것인,양전자 빔 집속장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 감속재 박막은 원뿔 형상으로 형성된 것인, 양전자 빔 집속장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 감속재 박막은 1㎛ 이하의 두께를 가지는 텅스텐 박막으로 형성된 것인, 양전자 빔 집속장치
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
양전자 현미경에 있어서, 제 1 차 에너지의 양전자를 방출시키는 양전자원;상기 양전자원의 전면에 배치되어, 상기 양전자원으로부터 방출된 제 1 에너지의 양전자에 의해 형성된 제 1 차 에너지의 양전자 빔을 제 2 차 에너지의 양전자 빔으로 감속 및 집속시키는 양전자 빔 집속장치;상기 양전자 빔 집속장치의 전면에 배치되어 상기 양전자 빔 집속 장치에 의해 감속 및 집속된 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔을 재 집속하는 콘덴싱 렌즈;상기 콘덴싱 렌즈에 의해 재집속된 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔을 시료에 조사하는 대물렌즈; 및 상기 콘덴싱 렌즈와 상기 대물렌즈 사이에 배치되어 상기 시료에 형성된 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔의 초점의 위치를 제어하는 스캔 코일을 포함하되, 상기 양전자 빔 집속장치는 상기 입사된 제 1 차 에너지의 양전자 빔을 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔으로 감속시키는 감속재 박막; 및상기 감속재 박막과 소정거리 이격되고, 상기 감속재 박막을 둘러싸도록 형성되며, 상기 감속재 박막의 말단부와 대응되는 위치에 형성된 홀(aperture)을 포함하는 서프레서를 포함하되, 상기 감속재 박막의 말단부는 첨예하도록 형성되고 상기 첨예한 말단부 및 상기 홀을 통해 상기 제 2 차 에너지의 양전자 빔을 집속시켜 교차점(cross-point)을 형성시키는 양전자 현미경
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 감속재 박막은 원뿔 형상으로 형성된 것인, 양전자 현미경
9 9
제 7 항에 있어서,상기 감속재 박막은 1㎛ 이하의 두께를 가지는 텅스텐 박막으로 형성된 것인, 양전자 현미경
10 10
제 7 항에 있어서, 상기 양전자원은 방사선 동위원소의 β+붕괴에 의해 제 1 에너지의 양전자를 방출하여, 상기 감속재 박막을 향해 입사시키는 것인, 양전자 현미경
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 감속재 박막은 상기 입사된 상기 제 1 에너지의 양전자에 의해, 제 2 에너지의 양전자를 재방출 시키는 것인, 양전자 현미경
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 감속재 박막 및 상기 서프레서에 바이어스 전압을 인가시키는 전압인가 장치를 더 포함하며, 상기 전압인가 장치는 상기 감속재 박막 및 상기 서프레서에 양의 바이어스 전압을 인가시키는 것인, 양전자 현미경
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 감속재 박막으로부터 재 방출된 상기 제 2 에너지의 양전자는상기 서프레서에 인가된 양의 바이어스 전압에 의한 쿨롱 척력에 의해 상기 홀을 통해 빠져나오되, 상기 홀의 외부에 빔 교차를 통해 생성되는 크로스 오버 포인트를 기반으로 크로스 오버되어 상기 홀의 직경과 비례하는 스팟 사이즈를 가지는 양전자 빔을 형성하는 것인, 양전자 현미경
14 14
삭제
15 15
제 7 항에 있어서,상기 시료에서 방출되는 2차 전자를 검출하는 2차 전자 검출기를 더 포함하는 것인, 양전자 현미경
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.