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리소그래피를 이용하여 마스크를 제조하는 마스크 제조장치에 있어서,탄성 필름을 하나 이상의 축 방향으로 인장하는 인장부;상기 인장부에 의해 인장된 상기 탄성 필름의 상면에 포토레지스트(photo-resist)를 도포하는 도포부;상기 포토레지스트 상면에 패턴을 형성하는 패턴 형성부;상기 포토레지스트에 형성된 패턴에 대응되도록 상기 탄성 필름에 패턴이 형성되도록 에칭하는 에칭부;상기 탄성 필름 상에 남아있는 상기 포토레지스트를 제거하는 세정부; 및상기 탄성 필름에 패턴이 형성된 후 상기 인장부를 제어하여 인장 상태의 상기 탄성 필름을 원 상태로 복원시키는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는 상기 탄성 필름의 인장 비율을 제어하여, 상기 원 상태로 복원된 상기 탄성 필름의 패턴의 크기가 상기 인장 비율에 따라 줄어들도록 하는 마스크 제조장치
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제1 항에 있어서,상기 인장부는,상기 탄성 필름을 1축 방향, 2축 방향, 3축 방향 중 어느 하나 이상으로 변형시킬 수 있는 마스크 제조장치
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제2 항에 있어서,상기 인장부는 상기 탄성 필름을 X-Y 평면 상에서 인장시킬 수 있는 마스크 제조장치
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제3 항에 있어서,상기 인장부는,상기 탄성 필름을 지지하는 베이스;상기 탄성 필름을 X축 방향으로 인장시키는 X축 방향 이동부; 및상기 탄성 필름을 Y축 방향으로 인장시키는 Y축 방향 이동부를 포함하는 마스크 제조장치
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제4 항에 있어서,상기 X축 방향 이동부는 상기 베이스의 X축 방향 양측에 제공되는 제1 이동부와 제2 이동부를 포함하고,상기 Y축 방향 이동부는 상기 베이스의 Y축 방향 양측에 제공되는 제3 이동부와 제4 이동부를 포함하는 마스크 제조장치
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제5 항에 있어서,상기 제1 이동부 내지 상기 제4 이동부는 각각,길이 조절 가능하게 형성되는 길이 조절부; 및상기 길이 조절부의 자유단 측에 제공되어 상기 탄성 필름을 고정할 수 있는 클램프를 포함하는 마스크 제조장치
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제4 항에 있어서,상기 베이스 위에는 인장되지 않는 기판이 올려지고, 상기 탄성 필름은 상기 기판 상에 안착된 상태로 상기 X축 방향 이동부 및 상기 Y축 방향 이동부에 의해 인장되는 마스크 제조장치
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제1 항에 있어서,사용자로부터 원하는 패턴, 인장 강도를 포함하는 제조 정보를 입력 받는 사용자 인터페이스부를 더 포함하는 마스크 제조장치
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제8 항에 있어서,상기 패턴 형성부는,상기 인장부가 상기 탄성 필름을 인장한 상태에서 상기 사용자 인터페이스부를 통해 전달받은 패턴을 상기 탄성 필름에 패터닝하는 마스크 제조장치
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제1 항에 있어서,상기 패턴 형성부는,레이저 빔을 조사하는 레이저 장치 또는 패턴이 형성된 몰드인 것을 포함하는 마스크 제조장치
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제9 항에 있어서,상기 패턴 형성부는 1 나노 미터 이상 1000 나노 미터 이하의 패턴을 형성할 수 있는 광학 장치를 포함하고,상기 포토레지스트에는 상기 패턴 형성부에 의해 1 나노 미터 이상 1000 나노 미터 이하의 크기를 갖는 패턴이 형성되는 마스크 제조장치
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제1 항에 있어서,상기 탄성 필름은 폴리디메틸실록산 (PDMS: polydimethylsiloxane), 폴리에틸렌 테레프타레이트(PET: polyethylene terephthalate), 폴리아미드(polyamide) 중 적어도 하나를 포함하는 탄성력 및 복원력을 가지는 재질로 형성되는 마스크 제조장치
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제12 항에 있어서,상기 포토레지스트는 SU-8, AZ 5214, SPR-220, S1800, ma-N 2400 series 중 적어도 하나로 형성되는 마스크 제조장치
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리소그래피 공정을 이용한 마스크 제조방법에 있어서,탄성 필름의 인장 비율을 제어하여, 제어된 인장 비율에 따라 인장부가 탄성 필름을 인장하는 단계;상기 탄성 필름이 인장된 상태에서 도포부가 인장된 상기 탄성 필름의 상면에 포토레지스트를 도포하는 단계;패턴 형성부는 상기 포토레지스트 상면에 패턴을 형성하는 단계; 및에칭부가 상기 포토레지스트에 형성된 패턴에 대응되도록 상기 탄성 필름에 패터닝되도록 에칭하는 단계;세정부가 상기 탄성 필름 상에 남아있는 상기 포토레지스트를 제거하는 단계; 및인장된 상태에서 패터닝이 완료된 상기 탄성 필름의 인장을 복원시켜, 복원된 상기 탄성 필름의 패턴의 크기가 상기 인장 비율에 따라 줄어드는 단계를 포함하는 마스크 제조방법
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제14 항에 있어서,상기 인장부는 탄성 필름을 어느 하나의 축 방향으로 인장시키는 복수 개의 이동부를 포함하고,각각의 이동부는,길이 조절 가능하게 형성되는 길이 조절부; 및상기 길이 조절부의 자유단 측에 제공되어 상기 탄성 필름을 고정할 수 있는 클램프를 포함하는 마스크 제조방법
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제15 항에 있어서,상기 인장부는 상기 탄성 필름을 지지하는 베이스를 포함하고,상기 길이 조절부는 상기 베이스의 중심을 기준으로 상기 탄성 필름을 인장시키는 마스크 제조방법
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제15 항에 있어서,상기 인장부는 상기 탄성 필름을 X축 방향으로 인장하는 제1 이동부와 제2 이동부를 포함하고,상기 탄성 필름을 Y축 방향으로 인장하는 제3 이동부와 제4 이동부를 포함하는 마스크 제조방법
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제14 항에 있어서,상기 탄성 필름은 폴리디메틸실록산 (PDMS: polydimethylsiloxane), 폴리에틸렌 테레프타레이트(PET: polyethylene terephthalate), 폴리아미드(polyamide) 중 적어도 하나를 포함하는 탄성력 및 복원력을 가지는 재질로 형성되는 마스크 제조방법
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제14 항에 있어서,상기 포토레지스트는 SU-8, AZ 5214, SPR-220, S1800, ma-N 2400 series 중 적어도 하나로 형성되는 마스크 제조방법
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제1 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 따른 마스크 제조 장치에 의해 제조된 리소그래피용 마스크
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제14 항 내지 제19 항 중 어느 한 항에 따른 마스크 제조 방법에 의해 제조된 리소그래피용 마스크
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제21항에 있어서,상기 탄성 필름은 폴리아미드의 재질로 형성되는 리소그래피용 마스크
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