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곡면 또는 평면을 가지는 유리기판을 준비하는 단계와;상기 유리기판 상에, OXIDE, NITRIDE, PHOTORESIST 및 POLYMER 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 재질로 하는 코팅층을 형성하는 단계와;상기 코팅층 상에 금, 은, 백금, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 니켈, 아연, 철, 주석, 청동 및 황동 중에서 선택된 적어도 하나의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금을 재질로 하는 금속층을 형성하는 단계와;상기 금속층을 구성하는 금속의 녹는점 이하의 온도에서 상기 금속층에 대한 열처리를 수행하여, 상기 코팅층과 상기 금속층 사이의 표면에너지 차이에 따른 비젖음(dewetting) 현상에 의해, 상기 코팅층 상에 광파장보다 작은 사이즈의 나노구멍 구조를 가지는 금속 마스크패턴을 형성하는 단계와; 상기 금속 마스크 패턴을 식각마스크로 하고 상기 유리기판을 식각정지막으로 하여 상기 코팅층에 대한 비등방성 식각공정을 수행함에 의해, 상기 유리기판 상에 광파장보다 작은 사이즈의 나노구멍 구조를 가지는 나노구멍 구조체를 형성하는 단계와;상기 금속 마스크패턴을 제거하는 단계;를 구비함을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 유리기판은 크라운(crown) 계열, 붕규산(borosilicate) 계열, 플린트(flints) 계열 중에서 선택된 적어도 하나의 재질을 가지는 광학유리(Optical Glass)임을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 코팅층은 화학적 기상증착법(CVD), 물리적 기상증착법(PVD), 플라즈마를 이용한 화학기상 증착법(PECVD), 스핀코팅법 중에서 선택된 적어도 하나의 증착방법을 이용하여 형성됨을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 금속층은 열증착, 전자빔증착, 스퍼터링, 스핀코팅 중에서 선택된 적어도 하나의 증착방법을 이용하여 형성됨을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 코팅층은 10~500nm의 두께로 증착되고, 상기 금속층은 15~100nm의 두께로 증착됨을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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청구항 5에 있어서,상기 금속층의 두께를 조절하거나 상기 열처리의 온도 조절을 통해 상기 나노구멍 구조체를 구성하는 나노구멍의 사이즈를 조절함을 특징으로 하는 무반사 렌즈의 제조방법
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