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반도체 웨이퍼가 안착되고, 회전 가능한 웨이퍼 척;상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 센터 정렬부;상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 중심점이 이동된 반도체 웨이퍼를 촬영하는 카메라; 및상기 카메라에 연결되고, 상기 카메라에서 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하며, 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 웨이퍼 척이 회전하도록 제어하여 상기 반도체 웨이퍼를 회전시키는 검출부를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치
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청구항 1에 있어서,상기 센터 정렬부는,중심부가 상기 웨이퍼 척에 연결되는 베이스부;상기 웨이퍼 척을 사이에 두고 서로 대향하도록 구비되고, 상기 웨이퍼 척을 기준으로 상호 가까워지거나 멀어지는 방향으로 직선 왕복 운동이 가능한 한 쌍의 수평 이동부; 및상기 반도체 웨이퍼에 대응하는 형상의 구조물로서 상기 한 쌍의 수평 이동부에 각각 일체로 형성되고, 상기 수평 이동부의 직선 왕복 운동에 따라 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 접하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 향하여 XY 방향으로 미는 힘을 가하는 가압 부재를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치
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청구항 2에 있어서,상기 가압 부재는 상기 한 쌍의 수평 이동부 각각의 일면에 미리 정해진 간격을 두고 돌출 형성된 복수의 바로 구비되는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치
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청구항 3에 있어서, 상기 복수의 바는, 6개가 구비되고, 상기 반도체 웨이퍼의 원주 방향을 따라 60°간격으로 6 방향에서 미는 힘을 가하도록 배치된 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치
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(a) 반도체 웨이퍼를 웨이퍼 척에 안착시키는 단계;(b) 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 단계;(c) 카메라를 이용하여 상기 반도체 웨이퍼를 촬영하는 단계;(d) 상기 카메라로 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하는 단계; 및(e) 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 반도체 웨이퍼가 안착된 웨이퍼 척을 회전시키는 단계를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 방법
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