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원통형 형상을 갖고 내부에 원자층 증착 공정을 위한 공정 공간을 제공하는 원통형 바디;상기 공정 공간과 연통되며, 소스 가스 및 캐리어 가스를 포함하는 공정 가스를 상기 공정 공간으로 유입시키는 가스 유입부, 및 상기 가스 유입부와 상기 공정 공간 사이를 연결하는 나선 구조를 가짐으로써 상기 공정 가스의 사이클론 기류를 형성하는 사이클론 형성부를 구비하는 가스 공급 유닛; 및상기 원통형 바디의 상부와 연결되며, 상기 공정 공간으로부터 가스를 배출할 수 있도록 구비된 가스 배출 유닛을 포함하고,상기 가스 배출 유닛은 중심에 배출구가 형성되고 상방으로 갈수록 작아지는 수평 단면적을 갖도록 콘 형상을 갖는 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 사이클론 형성부는, 상기 가스 유입부의 단부로부터 상기 원통형 바디의 중심을 기준으로 180°내지 1,800°범위로 연장된 나선형 바텀을 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제2항에 있어서, 상기 원통형 바디의 수직 높이는 상기 나선형 바텀의 수직 높이에 대하여 2 배 내지 10배 범위인 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제2항에 있어서, 상기 나선형 바텀에는 상기 원통형 바디의 중심 위치에 상기 공정 가스를 상기 공정 공간 내부로 공급하는 가스 유입구가 형성된 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 원통형 바디의 내벽에 형성되고, 상기 원통형 바디의 중심을 향하여 돌출된 복수의 돌기들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 커버의 내측면 및 상기 원통형 바디의 내측면은 20 내지 85°범위의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 가스 배출 유닛은,상기 배출구와 연통된 가스 배출 라인;상기 가스 배출 라인의 단부에 구비된 배기 펌프; 및상기 가스 배출 라인에 유로에 구비된 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 가스 공급 유닛은 상기 가스 유입부에 연결되고 상기 공정 가스의 유속을 증가시키는 팬을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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제1항에 있어서, 상기 가스 공급 유닛 및 상기 가스 배출 유닛과 상호 연결되어, 상기 가스 배출 유닛으로 배출된 가스를 상기 가스 공급 유닛으로 순환시키는 순환 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 공정용 챔버
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