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a) 폴리디메틸실록세인(polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리메타크릴산메틸(polymethylmethacrylate, PMMA)로 구성된 군으로부터 선택된 하나, 또는 둘의 블록공중합체 또는 공중합체로 제조된 칩;b) 4개의 채널 및 4개의 용액주입구로 구성된 마이크로 유체 주채널(micro-fluidic main channel);c) 2개의 채널과 2개의 용액주입구로 구성된 마이크로 유체 부채널(micro fluidic side channel); 및d) 상기 마이크로 유체 주채널 및 마이크로 유체 부채널과 연결되며 상기 마이크로 유체 주채널 및 마이크로 유체 부채널의 주입구 통해 주입된 용액(fluid)이 흘러들어 공존하는 중앙공간, 나노다공성 투과막 및 상기 나노다공성 투과막(nano-porous membrane)을 지지하는 다수의 투과막 지지기둥(membrane supporting column)을 포함하는 마이크로 유체 중앙채널(micro-fluidic central channel);을 포함하는 3차원 세포배양용 마이크로 칩에 있어서,상기 나노다공성 투과막은 폴리아세탈(polyacetal), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리올레핀(polyolefin), 폴리설폰(polysulfone), 폴리비닐클로라이드(poly(vinyl chloride)), 및 폴리에틸렌(polyethylene)으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 포함하는 생체적합성 고분자 물질을 전기방사(electrospining)하여 제조한 직경 5-30㎛의 생체적합성 고분자 나노섬유를 포함하되, 상기 생체적합성 고분자 나노섬유가 적층되어 형성된 간극으로 인해 직경 5-60㎛인 다수의 공극(pore)이 포함된 두께 30-200㎛의 나노다공성 투과막인 것을 특징으로 하는 3차원 세포배양용 마이크로 칩
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제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 유체 주채널, 마이크로 유체 부채널, 중앙공간 및 마이크로 유체 중앙채널은 소프트 리소그래피(soft lithography) 공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)상에 양각으로 형성한 나노구조체에 의해 음각으로 복제되어 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 세포배양용 마이크로 칩
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제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 유체 주채널의 채널은 폭 0
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제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 유체 부채널의 채널은 폭 0
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제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 유체 중앙채널은 폭 4-5mm; 깊이 0
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제 1 항에 있어서 상기 나노다공성 투과막은 전압 10-20kV, 방사속도 0
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a) 소프트 리소그래피(soft lithography) 공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)에 마이크로 유체 채널용 나노구조체를 형성하는 제 1 단계;b) 상기 마이크로 유체 채널용 나노구조체가 형성된 실리콘 웨이퍼에 폴리디메틸실록세인(polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리메타크릴산메틸(polymethylmethacrylate, PMMA)로 구성된 군으로부터 선택된 하나, 또는 둘의 블록공중합체 또는 공중합체 경화용액을 붓고 경화시켜 마이크로 유체 주채널 및 마이크로 유체 부채널을 포함하는 칩을 제조하는 제 2 단계;c) 상기 칩에 마이크로 유체 주채널의 용액주입구 및 마이크로 유체 부채널의 용액주입구를 형성하는 제 3 단계;d) 폴리아세탈(polyacetal), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리올레핀(polyolefin), 폴리설폰(polysulfone), 폴리비닐클로라이드(poly(vinyl chloride)), 및 폴리에틸렌(polyethylene)으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 포함하는 생체적합성 고분자 물질이 포함된 전기방사용액 8-12㎖를 20-30G 바늘이 장착된 주사기에 주입하고, 상기 주사기의 바늘을 팁(tip)에 고정시키며, 상기 팁과 콜렉터(collector)의 거리를 25-45cm로 고정 한 후 상기 팁과 상기 콜렉터에 10-20kV의 고전압을 인가하여 0
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제 10 항에 있어서, 상기 마이크로 유체 채널용 나노구조체는 높이 0
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제 10 항에 있어서, 상기 칩은 상기 나노구조체가 형성된 실리콘 웨이퍼에 상기 폴리디메틸실록세인(polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리메타크릴산메틸(polymethylmethacrylate, PMMA)로 구성된 군으로부터 선택된 하나, 또는 둘의 블록공중합체 또는 공중합체 경화용액을 붓고 70-90℃ 오븐에서 20-40분간 열처리를 수행하여 제조하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포배양용 마이크로 칩의 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 나노다공성 투과막과 상기 PDMS 칩의 부착은 4℃에 보관하여 점도를 향상시킨 상기 폴리디메틸실록세인(polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리메타크릴산메틸(polymethylmethacrylate, PMMA)로 구성된 군으로부터 선택된 하나, 또는 둘의 블록공중합체 또는 공중합체 경화용액을 상기 칩의 표면에 골고루 펴 바른 후 상기 나노다공성 투과막을 부탁시키는 1차 부착 단계; 및 상기 1차 부착단계로 부착된 상기 나노다공성 투과막의 마이크로 유체 주채널 용액주입구 부분과 마이크로 유체 중앙채널 부분을 제외한 나머지 부분에 상기 4℃에 보관하여 점도를 향상시킨 폴리디메틸실록세인(polydimethylsiloxane, PDMS) 및 폴리메타크릴산메틸(polymethylmethacrylate, PMMA)로 구성된 군으로부터 선택된 하나, 또는 둘의 블록공중합체 또는 공중합체 경화용액을 골고루 펴 바른 후 70-90℃ 오븐에서 5-15분간 열처리하는 2차 부착단계;로 구성되는 것을 특징으로 하는 3차원 세포배양용 마이크로 칩의 제조방법
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