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표면 넓이 100㎛2당 5 ~ 20개의 홀(hole)을 표면에 포함하고뇌파전극의 표면에 묻어난 메틸렌 블루 용액의 양을 측정한 뒤, 비표면적을 계산해 내는 방법에 의거하여 측정시, 비표면적 0
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제1항에 있어서, 상기 다공성 뇌전극은 핀(fin)형 전극 또는 나사(screw)형 전극인 것을 특징으로 하는 고감도 침습형 다공성 뇌전극
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제1항에 있어서, 상기 홀은 평균지름이 0
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제1항에 있어서, 상기 홀은 평균깊이가 1㎛ ~ 3㎛인 것을 특징으로 하는 고감도 침습형 다공성 뇌전극
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제1항 내지 제4항 중에서 선택된 어느 한 항에 있어서,다공성 뇌전극의 표면에 묻어난 메틸렌 블루 용액의 양을 측정한 뒤, 비표면적을 계산해 내는 방법에 의거하여 측정시, 비표면적 0
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제5항에 있어서, EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 측정 시철(Fe) 45 at% ~ 46 at%, 크롬(Cr) 17 at% ~ 19 at%, 탄소(C) 30 at% ~ 34 at%, 니켈(Ni) 2 at% ~ 3 at% 및 알루미늄(Al) 1
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뇌전극을 양극산화처리공정을 수행하여 뇌전극 표면에 다공성 구조를 형성시키는 것을 특징으로 하는 고감도 침습형 다공성 뇌전극의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 양극산화처리공정은상기 뇌전극 및 탄소전극을 포함하는 전해액 내에 수행하고, 상기 뇌전극은 (+)극으로서 사용하고, 상기 탄소전극은 (-)극으로서 사용하며, 30분 ~ 2시간 동안 20V ~ 38V의 직류를 가하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고감도 침습형 다공성 뇌전극의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 전해액은 플루오린화 암모늄 0
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제1항 내지 제4항 중에서 선택된 어느 한 항의 침습형 다공성 뇌전극으로 뇌피질의 전기적 신호를 수신하여 뇌피질 뇌파를 측정하는 것을 특징으로 하는 뇌파측정방법
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