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(a) 기판을 제공하는 단계;(b) 상기 기판 상에 광경화성 고분자 전구체를 포함하는 혼합물을 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;(c) 패턴화된 빈 공간과 채워진 부분을 갖는 마스크를 상기 코팅층에 덮고 광조사하여 상기 코팅층을 광경화시키는 단계;(d) 상기 광경화된 코팅층을 세척하여 음각 또는 양각에 의해 형성된 공극(孔隙) 및 상기 공극 사이의 지지부를 포함하는 패턴화된 고분자 필름을 제조하는 단계; 및(e) 상기 패턴화된 고분자 필름의 공극에 미립자를 위치시켜 미립자가 공극에 위치하는 고분자 복합체를 제조하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 단계;를 포함하고,단계 (c)에서 광조사를 조절하여 광경화된 코팅층이 아래 식 1을 만족하도록 제어하고, 상기 마스크의 채워진 부분 아래의 경화된 코팅층은 상기 기판과 접하고,상기 패턴화된 고분자 필름의 공극에 미립자를 위치시키는 것이 상기 미립자와 상기 공극 표면과의 점착성 및 상기 공극의 바닥과 지지부 표면과의 단차에 의한 것인 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크의 빈 공간 아래의 경화된 코팅층(A1)은 탄화수소화합물의 세척에 의해 제거되는 상기 광경화성 고분자 전구체가 존재하지 않고, 상기 마스크의 채워진 부분 아래의 경화된 코팅층(A2)은 탄화수소화합물의 세척에 의해 경화되지 않은 상기 광경화성 고분자 전구체가 제거되고,상기 코팅층(A1)은 상기 지지부가 되고, 상기 코팅층(A2)은 공극이 되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 패턴화된 고분자 필름의 공극에 미립자를 위치시키는 것이 문지르기(rubbing) 또는 누르기(pressing against substrate)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 방법이 단계 (e) 이후 공극에 위치하지 않는 미립자를 공기 분사에 의해 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크의 패턴은 원형 형상인 빈 공간이 소정의 간격으로 이격되어 연속적으로 배열되는 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제7항에 있어서,상기 빈 공간의 직경이 1 ~ 100 ㎛인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 공극이 오목한 홈 형상인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층의 두께가 패턴의 크기가 클수록 두꺼워지는 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 단계 (b)의 광경화성 고분자 전구체가 하이드로겔 형태인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제1항에 있어서,상기 미립자의 크기가 1 ~ 1000 ㎛인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제12항에 있어서,상기 미립자가 건조된 분말 형태인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제12항에 있어서,상기 미립자가 유기 고분자, 무기 고분자, 무기물, 금속, 자성체 또는 반도체인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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제12항에 있어서,상기 미립자가 구형, 반구형, 큐브형, 사면체, 오면체, 육면체, 팔면체, 기둥형, 뿔형, 대칭형, 비대칭형 또는 무정형인 것을 특징으로 하는, 대면적 기판 상의 미립자 배열 방법
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