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평판 메타렌즈 및 이를 포함하는 커버글라스

  • 기술번호 : KST2019001120
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본원은, 평판 메타렌즈, 및 상기 평판 메타렌즈를 포함하는 커버글라스를 제공한다.
Int. CL G02B 5/18 (2006.01.01) G02B 1/00 (2006.01.01) G02B 21/02 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180025367 (2018.03.02)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2142537-0000 (2020.08.03)
공개번호/일자 10-2019-0017626 (2019.02.20) 문서열기
공고번호/일자 (20200807) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020170102178   |   2017.08.11
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.02)
심사청구항수 32

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신종화 대전광역시 유성구
2 장태용 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2018.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0216093-15
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0224625-18
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2019-0540040-07
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.05.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0540115-22
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.10.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0775982-71
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2019.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1340566-98
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.12.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1340625-94
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1340626-39
10 등록결정서
Decision to grant		 2020.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0316758-86
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
13 [일부 청구항 포기]취하서·포기서
 2020.08.03 수리 (Accepted) 2-1-2020-0557571-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일 측에 피사체가 접하는 제 1 평판 기재, 및상기 제 1 평판 기재의 타 측에 위치되는 제 1 메타 표면을 포함하는 제 1 렌즈를 포함하는, 평판 메타렌즈로서,상기 제 1 렌즈의 굴절률 n1 과 상기 제 1 렌즈와 상기 피사체의 이미지 면 (image plane) 사이의 공기 층의 굴절률 n2가 n1 003e# n2 의 관계를 만족하는 것이고,상기 제 1 메타 표면은 회절 격자를 포함하는 것이고,실상 형성 조건은 하기 식 3을 만족하고, 허상 형성 조건은 하기 식 5를 만족하는 것인,평판 메타렌즈:[식 3];[식 5];Φ는 투과하는 빛이 제 1 메타 표면의 원점으로부터 r만큼 떨어진 위치에서의 위상을 나타내고,p는 피사체가 제 1 메타 표면으로부터 떨어지 거리를 나타내고,λ는 투과하는 빛의 파장을 의미함
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 렌즈는 실상 렌즈 또는 허상 렌즈인 것인, 평판 메타렌즈
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 렌즈는 GaP, Si, 유리, SiO2, TiO2, ZnO, Al2O3, AlN, Si3N4, Ge, ZrO2, SiC, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고굴절률 물질을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
5 5
제 1 항에 있어서,상기 제 1 메타표면은 한 개 이상의 요철을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제 1 메타표면의 요철의 두께는 2 μm 이하인 것인, 평판 메타렌즈
7 7
제 1 항에 있어서,상기 제 1 렌즈의 두께는 500 μm 이하인 것인, 평판 메타렌즈
8 8
삭제
9 9
제 1 항에 있어서,상기 회절 격자는 1 차원의 프레넬 띠판, 2 차원의 프레넬 띠판, 또는 공간주파수 필터용 프레넬 띠판을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
10 10
제 1 항에 있어서,상기 제 1 메타표면은 상기 제 1 평판 기재를 식각하여 형성되거나 또는 상기 제 1 평판 기재의 일 측에 부착되어 형성되는 것인, 평판 메타렌즈
11 11
제 1 항에 있어서,상기 평판 메타렌즈를 투과하는 빛의 파장은 자외선 영역, 가시광선 영역, 적외선 영역, 또는 근적외선 영역인 것인, 평판 메타렌즈
12 12
제 1 항에 있어서,상기 평판 메타렌즈는 제 2 렌즈를 추가 포함하며,상기 제 2 렌즈는 일 측이 상기 제 1 메타표면에 접촉되는 제 2 평판 기재 및 상기 제 2 평판 기재의 타 측에 위치되는 제 2 메타표면을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
13 13
◈청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
14 14
제 12 항에 있어서,상기 제 1 렌즈의 굴절률 n1, 상기 제 2 렌즈의 굴절률 n2, 및 상기 제 2 메타표면과 상기 피사체의 이미지 면 (image plane) 사이의 공기 층의 굴절률 n3는 n1 003e# n2 003e# n3의 관계를 만족하는 것인, 평판 메타렌즈
15 15
제 12 항에 있어서,상기 제 1 렌즈는 GaP, Si, 유리, SiO2, TiO2, ZnO, Al2O3, AlN, Si3N4, Ge, ZrO2, SiC, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고굴절률 물질을 포함하는 것이고, 상기 제 2 렌즈는 폴리스티렌(polystyrene), 폴리카보네이트 (polycarbonate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate), 실리카 에어로젤(silica aerogel), GaP, Si, 유리, SiO2, TiO2, ZnO, Al2O3, AlN, Si3N4, Ge, ZrO2, SiC, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
16 16
◈청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
17 17
◈청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
18 18
◈청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
19 19
제 12 항에 있어서,상기 제 1 메타 표면 및 상기 제 2 메타 표면은 각각 서로 독립적으로 회절 격자를 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
20 20
◈청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
21 21
◈청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
22 22
◈청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
23 23
제 1 항에 있어서,상기 평판 메타렌즈는 제 2 렌즈 및 공기 층을 추가 포함하며,상기 제 2 렌즈는 상기 제 1 메타 표면에 이격되어 위치되는 제 2 평판 기재, 및 상기 제 2 평판 기재의 일 측에 위치되는 제 2 메타 표면을 포함하는 것이고,상기 공기 층은 상기 제 1 렌즈 및 상기 제 2 렌즈 사이에 위치되는 것인, 평판 메타렌즈
24 24
◈청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
25 25
제 23 항에 있어서,상기 제 1 렌즈의 굴절률 n1, 상기 공기 층의 굴절률 n2, 및 상기 제 2 렌즈의 굴절률 n3는 n1 003e# n3 003e# n2의 관계를 만족하는 것인, 평판 메타렌즈
26 26
제 23 항에 있어서,상기 제 1 렌즈는 GaP, Si, 유리, SiO2, TiO2, ZnO, Al2O3, AlN, Si3N4, Ge, ZrO2, SiC, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고굴절률 물질을 포함하는 것이고, 상기 제 2 렌즈는 폴리스티렌(polystyrene), 폴리카보네이트 (polycarbonate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate), 실리카 에어로젤(silica aerogel), GaP, Si, 유리, SiO2, TiO2, ZnO, Al2O3, AlN, Si3N4, Ge, ZrO2, SiC, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
27 27
◈청구항 27은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
28 28
◈청구항 28은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
29 29
◈청구항 29은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
30 30
제 23 항에 있어서,상기 제 1 메타 표면 및 상기 제 2 메타 표면은 각각 서로 독립적으로 회절 격자를 포함하는 것인, 평판 메타렌즈
31 31
◈청구항 31은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
32 32
◈청구항 32은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
33 33
◈청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
34 34
제 1 항, 제 2 항, 제 4 항 내지 제 7 항 및 제 9 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 따른 평판 메타렌즈를 포함하는, 커버글라스
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP03667376 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 US20190049632 US 미국 FAMILY
3 WO2019031680 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 EP3667376 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 개인기초연구(미래부) 맞춤형 전기자기적 성질을 띠는 준 2차원 나노구조 광소재
2 과학기술정보통신부 한국과학기술원 STEAM 연구 테라스케일 메타물질을 위한 공정 고려 메타구조체 설계