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워터젯의 특성을 측정하는 장치에 있어서,상기 워터젯에 포커싱되어 워터젯을 투과하고, 상기 워터젯의 일측면을 스캔할 수 있는 펄스 변조된 레이저를 포함하는 복수의 광원부;상기 워터젯을 투과한 복수의 광원부에서 출력되는 레이저를 각각 수광하기 위해서 상기 복수의 광원부에 대응되도록 쌍으로 위치하는 복수의 수광부;상기 펄스 변조된 레이저는 워터젯이 없을 때 펄스 도착시간과 워터젯이 있을 때 펄스 도착시간을 차이를 기초로 워터젯의 특성을 분석하는 제어부를 포함하고,상기 특성은 워터젯의 직경, 모양, 수압을 포함하고, 상기 제어부는 복수의 광원부와 수광부를 이용하여 워터젯의 직경 및 모양을 측정하며, 상기 워터젯의 일측면을 스캔하여 워터젯의 엣지에서부터 중심부의 굴절률 분포를 측정할 수 있는 것을 특징으로 하고,상기 워터젯의 특성을 측정하는 LED광원, 미러, 카메라를 더 포함하고, 상기 카메라는 상기 미러에 의해 반사된 LED광원의 빛을 측정하여 워터젯의 위치를 특정할 수 있는 것을 특징으로 하는 장치
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제1항에 있어서,워터젯이 통과하는 경로에, 상기 수광부와 상기 광원부 사이에 홀 형상의 측정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 워터젯의 특성을 측정하는 장치
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제2항에 있어서,상기 측정부의 외측에 형성되어, 상기 수광부와 상기 광원부를 보호하는 보호부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워터젯의 특성을 측정하는 장치
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제3항에 있어서,상기 보호부는 레이저가 통과하는 통공부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워터젯의 특성을 측정하는 장치
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제3항에 있어서,상기 보호부는 레이저가 투과할 수 있고, 방수기능을 포함하는 튜브인 것을 특징으로 하는 워터젯의 특성을 측정하는 장치
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워터젯으로 가이드된 가공용 레이저를 이용하여 피가공물을 가공하는 가공장치에 있어서,소정의 파장을 갖는 가공용 레이저;물을 공급하는 수공급부;상기 가공용 레이저와 상기 수공급부의 물을 커플링 시키는 결합부;상기 결합부의 일측에 결합되어 있는 노즐;상기 노즐에 일측에서 나오는 상기 가공용 레이저가 가이드된 워터젯;상기 노즐의 일측과 상기 피가공물 사이에 위치하며, 상기 워터젯의 특성을 측정하는 워터젯 측정장치를 포함하고;상기 워터젯 측정장치는,기 워터젯에 포커싱되어 워터젯을 투과하고, 상기 워터젯의 일측면을 스캔할 수 있는 펄스 변조된 레이저를 포함하는 복수의 광원부;상기 워터젯을 투과한 복수의 광원부에서 출력되는 레이저를 각각 수광하기 위해서 상기 복수의 광원부에 대응되도록 쌍으로 위치하는 복수의 수광부;상기 펄스 변조된 레이저는 워터젯이 없을 때 펄스 도착시간과 워터젯이 있을 때 펄스 도착시간을 차이를 기초로 워터젯의 특성을 분석하는 제어부를 포함하고;상기 특성은 워터젯의 직경, 모양, 수압을 포함하고;상기 제어부는 복수의 광원부와 수광부로부터 워터젯의 직경 및 모양을 측정하며, 상기 워터젯의 일측면으로 스캔하여 워터젯의 엣지에서부터 중심부의 굴절률 분포를 측정할 수 있는 것을 특징으로 하고,상기 워터젯의 특성을 측정하는 LED광원, 미러, 카메라를 더 포함하고, 상기 카메라는 상기 미러에 의해 반사된 LED광원의 빛을 측정하여 워터젯의 위치를 특정할 수 있는 것을 특징으로 하는 가공장치
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제8항에 있어서,상기 워터젯 측정장치는 이송장치를 포함하여, 상기 이송장치에 의해서, 상기 워터젯 측정장치가 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 가공장치
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