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(a) 나노 채널의 측벽을 형성하는 제 1 물질층과 나노 사이즈 두께의 제 2 물질층을 반복하여 적층시키는 단계;(b) 상기 적층된 제 1 물질층과 제 2 물질층을 적층 방향으로 일정 두께를 가지도록 절단하여 단위 유닛을 형성하는 단계;(c) 상기 단위 유닛에서 상기 제 1 물질층의 두께를 나노 사이즈 두께로 선택적으로 식각하는 단계; 및(d) 상기 단위 유닛에서 상기 제 2 물질층을 선택적으로 식각하여 나노 채널을 형성하는 단계를 포함하는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 물질층과 상기 제 2 물질층은 서로 다른 에칭 선택비(etching selectivity)를 갖는 소재로 형성되고, 제 1 식각액에 의해 상기 제 2 물질층만 선택적으로 식각하여 상기 나노 채널을 형성하는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 또는 (d) 단계에서상기 절단된 단위 유닛을 기판 위에 수평으로 두고 식각을 수행하는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 제 2 물질층은 전자빔 증착법(e-beam evaporation), 스퍼터링(sputtering), 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition), 또는 원자층증착법(Atomic Layer Deposition) 중 어느 하나의 방법으로 증착되는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 물질층과 상기 제 2 물질층은 서로 다른 에칭 선택비(etching selectivity)를 갖는 소재로 형성되고, 제 2 식각액에 의해 상기 제 1 물질층만 선택적으로 식각되는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 2 식각액을 초순수에 희석시켜 식각 속도를 제어하는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (d) 단계에서 형성된 단위 유닛을 가로 또는 세로로 적층시키는 단계를 더 포함하는 나노 채널을 제작하는 방법
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제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6항 내지 제 8항의 방법 중 어느 하나의 방법으로 제작되어 복수의 나노 채널을 구비하는 나노 필터
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