| 1 |
1
메틸트리에톡시실란(CH3Si(OC2H5)3), 에탄올, 염산 및 물을 일정 비율로 배합하여 메틸 실리콘 용액을 제조하는 단계;마그네슘 아세테이트(Mg(CH3COO)2), 불산(HF), 무수에탄올 및 에탄올을 일정 비율로 배합하여 마그네슘 플루오라이드(MgF2) 입자가 포함된 MgF2 용액을 제조하는 단계;상기 메틸 실리콘 용액과 상기 MgF2 용액을 혼합하여 코팅액을 제조하는 단계; 및상기 코팅액을 아연(Zn) 코팅막이 형성된 자기 애자의 금구류 표면에 코팅하여 MgF2 코팅막을 형성시키는 코팅단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 애자 금구류의 코팅 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 메틸 실리콘 용액은 총 메틸 실리콘 용액 부피 250mL를 기준으로, 메틸트리에톡시실란(CH3Si(OC2H5)3) 15mL 내지 25mL, 에탄올 180mL 내지 220mL, 염산 0
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 MgF2 용액은 총 MgF2 용액 부피 220mL를 기준으로, 마그네슘 아세테이트(Mg(CH3COO)2) 3
|
| 4 |
4
제3항에 있어서상기 열처리 단계는,상기 혼합용액을 250℃ 온도에서 24시간 동안 가열하는 것을 특징으로 하는 자기 애자 금구류의 코팅 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 코팅액을 제조하는 단계는,상기 메틸 실리콘 용액과 상기 MgF2 용액을 50 : 50의 중량비로 혼합하여 코팅액을 제조하는 것을 특징으로 하는 자기 애자 금구류의 코팅 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 코팅단계에서 코팅막의 두께는 240nm 내지 350nm인 것을 특징으로 하는 자기 애자 금구류의 코팅 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 코팅단계는 침지 코팅(dipping coating), 스핀 코팅(spin coating) 또는 바 코팅(bar coating) 공정을 수행하여 MgF2 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 애자 금구류의 코팅 방법
|
| 8 |
8
메틸트리에톡시실란(CH3Si(OC2H5)3), 에탄올, 염산 및 물을 일정 비율로 배합하여 메틸 실리콘 용액을 제조하는 단계;마그네슘 아세테이트(Mg(CH3COO)2), 불산(HF), 무수에탄올 및 에탄올을 일정 비율로 배합하여 마그네슘 플루오라이드(MgF2) 입자가 포함된 MgF2 용액을 제조하는 단계;상기 메틸 실리콘 용액과 상기 MgF2 용액을 혼합하여 코팅액을 제조하는 단계; 및상기 코팅액을 자기 애자의 금구류 표면에 코팅하여 코팅층을 형성시키는 코팅단계;를 거쳐서 아연(Zn) 코팅막이 형성된 자기 애자의 금구류 표면에 MgF2 코팅막이 형성된 것을 특징으로 하는 자기 애자
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 MgF2 코팅막의 두께가 240nm 내지 350nm인 것을 특징으로 하는 자기 애자
|
| 10 |
10
제8항에 있어서,상기 MgF2 코팅막은 300nm 내지 1100nm 파장에서 평균 빛 반사율이 81% 이상인 것을 특징으로 하는 자기 애자
|
| 11 |
11
제8항에 있어서,상기 MgF2 코팅막은 물에 대한 접촉각이 83° 내지 113°인 것을 특징으로 하는 자기 애자
|
