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고전압 유닛;상기 고전압 유닛과 마주보는 도금 재료부; 및음의 전압이 인가되는 이송 롤을 포함하는 전기 도금 장치를 포함하되,상기 고전압 유닛은:고전압 롤; 및상기 고전압 롤의 표면을 덮는 절연 피복을 포함하고,상기 도금 재료부는 양의 전압을 인가받는 전극 구조체 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 도금 재료부는 곡면 판 형상을 갖는 전극 구조체 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 도금 재료부와 상기 고전압 롤 사이의 거리는 일정한 전극 구조체 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 도금 재료부는 균일한 두께를 갖는 전극 구조체 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 도금 재료부는 상기 도금 재료부를 관통하는 홀들을 포함하는 전극 구조체 제조 장치
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제 5 항에 있어서,상기 홀들은 상기 도금 재료부의 전체 면적의 약 50 퍼센트(%) 이하로 제공되는 전극 구조체 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 이송 롤과 상기 고전압 유닛 사이 및 상기 고전압 유닛과 상기 도금 재료부 사이에 씨드 필름이 배치되고,상기 씨드 필름은:기판; 및상기 기판의 상면 상에 제공된 씨드 패턴을 포함하고, 상기 씨드 패턴은 상기 이송 롤에 전기적으로 연결되어 상기 음의 전압을 인가받는 전극 구조체 제조 장치
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제 7 항에 있어서,상기 씨드 패턴은 10 나노미터(nm) 내지 20 나노미터(nm)의 두께를 갖는 전극 구조체 제조 장치
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제 7 항에 있어서,상기 고전압 유닛, 상기 도금 재료부, 및 상기 이송 롤을 둘러싸는 하우징; 및상기 하우징 내에 제공되는 전해질을 더 포함하되,상기 고전압 유닛의 하부 및 상기 도금 재료부는 상기 전해질 내에 잠긴 전극 구조체 제조 장치
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제 9 항에 있어서,상기 도금 재료부는 구리(Cu)를 포함하고,상기 전해질은 황산구리 수용액을 포함하는 전극 구조체 제조 장치
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제 9 항에 있어서,상기 전해질을 순환시키는 순환 장치를 더 포함하는 전극 구조체 제조 장치
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제 9 항에 있어서,상기 절연 피복은 절연 물질을 포함하고,상기 고전압 롤은 상기 절연 피복에 의해 상기 씨드 필름 및 상기 전해질로부터 전기적으로 분리되는 전극 구조체 제조 장치
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제 1 항에 있어서,포토레지스트 현상 장치; 및포토레지스트 제거 장치를 포함하되,상기 포토레지스트 현상 장치, 상기 전기 도금 장치, 및 상기 포토레지스트 제거 장치 내에 씨드 필름이 배치되고, 상기 씨드 필름은 상기 포토레지스트 현상 장치, 상기 이송 롤과 상기 고전압 유닛 사이, 상기 고전압 유닛과 상기 도금 재료부 사이, 및 상기 포토레지스트 제거 장치를 차례로 통과하도록 제어되는 전극 구조체 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 고전압 롤은 1 킬로볼트(kV) 내지 100 킬로볼트(kV)의 전압을 인가받는 전극 구조체 제조 장치
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