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무선 통신 시스템에서 빔을 제어하기 위한 통신 장치에 있어서,복수의 유닛 셀(unit cell)들이 배치되는 적어도 하나의 층을 포함하는 렌즈;빔 패턴을 결정하고, 상기 빔 패턴에 기반하여 상기 복수의 유닛 셀들 각각의 전기 용량(capacitance)을 제어하는 제어부; 및상기 전기 용량이 제어된 상기 렌즈를 통해, 상기 결정된 빔 패턴으로 신호를 송신하는 통신부를 포함하고,상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 제1 도전성 부재; 상기 제1 도전성 부재의 적어도 일부와 중첩되는 방식으로 배치되고, 상기 제1 도전성 부재와 이격된 제2 도전성 부재; 및상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재의 중첩되는 부분 사이에 개재(interpose)되는 유전체를 포함하고, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재의 중첩되는 영역은, 외부 전자기파로부터 차폐(shield)되는 방향으로 배치되는 통신 장치
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제1항에 있어서, 상기 유전체는, 반도체 소자, 액정 물질 및 광전 물질 중 적어도 하나를 포함하는 통신 장치
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제1항에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는,상기 유전체를 기준으로 서로 대칭 또는 비대 형태인 통신 장치
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제3항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 상기 복수의 유닛 셀들 각각이 비공진(non-resonance) 특성을 가지기 위한 형태인 통신 장치
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제4항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, I 형태 또는 누운 H 형태인 통신 장치
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제4항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 전체로서 쌍극자(dipole) 특성을 가지는 통신 장치
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제1항에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는,전기적 또는 물리적으로 단절되는 통신 장치
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8
제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 층은,상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도를 제어하기 위한 제1 층과,상기 신호의 H면(H-plane)에 대한 각도를 제어하기 위한 제2 층을 포함하는 통신 장치
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9
제8항에 있어서, 상기 렌즈는,상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들 각각은, 상기 신호에 대응하는 전자기파에 대한 등전위면(equi-potential plane)을 따라 배치되는 통신 장치
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10
제8항에 있어서, 상기 렌즈는, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들 중 적어도 두 개의 제어 배선들은 중첩(overlap)되어, 각각이 상기 제2 층의 유닛 셀들 중에서 서로 다른 유닛 셀 그룹을 제어하는 통신 장치
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제8항에 있어서, 상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들과, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들은 서로 수직인 방향으로 배치되는 통신 장치
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제1항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들은, 상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도 및 H면(H-plane)에 대한 각도 중 하나를 제어하기 위한 제1 층과 제2 층을 포함하고,상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들과, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들은 서로 다른 방향으로 배치되는 통신 장치
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제1항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들은, 상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도 및 H면(H-plane)에 대한 각도 중 하나를 제어하기 위한 제1 층과 제2 층을 포함하고,상기 렌즈는, 상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들은, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하는 통신 장치
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제8항에 있어서, 상기 제어부는,상기 빔 패턴에 대응하는 E면 제어 각도 및 H면 제어 각도를 결정하고, 상기 E면 제어 각도에 기반하여, 상기 제1 층의 유닛 셀들에 인가될 제1 제어 전압을 결정하고, 상기 H면 제어 각도에 기반하여, 상기 제2 층의 유닛 셀들에 인가될 제2 제어 전압을 결정하고, 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압에 기반하여, 상기 전기 용량을 제어하는 통신 장치
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15
제1항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은,상기 제1 도전성 부재로부터 연장되고, 상기 제1 도전성 부재로부터 미리 설정된 제1 각도로 절곡된 제3 도전성 부재; 및상기 제2 도전성 부재로부터 연장되고, 상기 제2 도전성 부재로부터 미리 설정된 제2 각도로 절곡된 제4 도전성 부재를 포함하는 통신 장치
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16
제15항에 있어서, 상기 제3 도전성 부재와 상기 제4 도전성 부재는, 서로 반대 방향으로 절곡된 통신 장치
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17
제15항에 있어서, 상기 제1 각도 및 상기 제2 각도는 동일한 통신 장치
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제8항에 있어서, 상기 제1 층 또는 상기 제2 층에서 인접한 제어 배선들간 간격은, 상기 제1 층 또는 제2 층이 편광 판으로 기능하기 위해 미리 설정된 간격 이하로 설정되는 방법
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19
제18항에 있어서, 상기 제1 층 또는 상기 제2 층은, 상기 인접한 제어 배선들간 간격이 미리 설정된 간격 이하로 설정되기 위해, 상기 복수의 유닛 셀들과 전기적으로 연결되지 아니하고, 상기 복수의 유닛 셀들을 제어하는데 사용되지 아니하는 적어도 하나의 더미 배선을 더 포함하는 방법
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20
무선 통신 시스템에서 빔을 제어하기 위한 통신 장치의 동작 방법에 있어서,빔 패턴을 결정하는 과정과,상기 빔 패턴에 기반하여 복수의 유닛 셀들 각각의 전기 용량(capacitance)을 제어하는 과정과, 상기 복수의 유닛 셀들은 렌즈에 포함된 적어도 하나의 층에 배치되고,상기 전기 용량이 제어된 상기 렌즈를 통해, 상기 결정된 빔 패턴으로 신호를 송신하는 과정을 포함하고,상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 제1도전성 부재; 상기 제1 도전성 부재의 적어도 일부와 중첩되는 방식으로 배치되고, 상기 제1 도전성 부재와 단절되는 제2 도전성 부재; 및상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재의 중첩되는 부분 사이에 개재(interpose)되는 유전체를 포함하고, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재의 중첩되는 영역은, 외부 전자기파로부터 차폐(shield)되는 방향으로 배치되는 방법
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제20항에 있어서, 상기 유전체는, 반도체 소자, 액정 물질 및 광전 물질 중 적어도 하나를 포함하는 방법
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제20항에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는,상기 유전체를 기준으로 서로 대칭 또는 비대 형태인 방법
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제22항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 상기 복수의 유닛 셀들 각각이 비공진(non-resonance) 특성을 가지기 위한 형태인 방법
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제23항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, I 형태 또는 누운 H 형태인 방법
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제23항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은, 전체로서 쌍극자(dipole) 특성을 가지는 방법
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제20항에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는,전기적 또는 물리적으로 단절되는 방법
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제20항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들은, 상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도를 제어하기 위한 제1 층과,상기 신호의 H면(H-plane)에 대한 각도를 제어하기 위한 제2 층을 포함하는 방법
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제27항에 있어서, 상기 렌즈는,상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들 각각은, 상기 신호에 대응하는 전자기파에 대한 등전위면(equi-potential plane)을 따라 배치되는 방법
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제27항에 있어서, 상기 렌즈는, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들 중 적어도 두 개의 제어 배선들은 중첩(overlap)되어, 각각이 상기 제2 층의 유닛 셀들 중에서 서로 다른 유닛 셀 그룹을 제어하는 방법
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제29항에 있어서, 상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어제어 배선들과, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들은 서로 수직인 방향으로 배치되는 방법
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제20항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들은, 상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도 및 H면(H-plane)에 대한 각도 중 하나를 제어하기 위한 제1 층과 제2 층을 포함하고,상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들과, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들은 서로 다른 방향으로 배치되는 방법
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제20항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들은, 상기 신호의 E면(E-plane)에 대한 각도 및 H면(H-plane)에 대한 각도 중 하나를 제어하기 위한 제1 층과 제2 층을 포함하고,상기 렌즈는, 상기 제1 층의 유닛 셀들을 제어하기 위한 복수의 제어 배선들을 포함하고,상기 복수의 제어 배선들은, 상기 제2 층의 유닛 셀들을 제어하는 방법
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제27항에 있어서, 상기 빔 패턴에 기반하여 렌즈에 포함된 복수의 유닛 셀들 각각의 유전율을 제어하는 과정은,상기 빔 패턴에 대응하는 E면 제어 각도에 기반하여, 상기 제1 층의 유닛 셀들에 인가될 제1 제어 전압을 결정하고, 상기 빔 패턴에 대응하는 H면 제어 각도에 기반하여 상기 제2 층의 유닛 셀들에 인가될 제2 제어 전압을 결정하는 과정과, 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압에 기반하여, 상기 유전율을 제어하는 방법
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제20항에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은,상기 제1 도전성 부재로부터 연장되고, 상기 제1 도전성 부재로부터 미리 설정된 제1 각도로 절곡된 제3 도전성 부재; 및상기 제2 도전성 부재로부터 연장되고, 상기 제2 도전성 부재로부터 미리 설정된 제2 각도로 절곡된 제4 도전성 부재를 포함하는 방법
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제34항에 있어서, 상기 제3 도전성 부재와 상기 제4 도전성 부재는, 서로 반대 방향으로 절곡된 방법
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제34항에 있어서, 상기 제1 각도 및 상기 제2 각도는 동일한 방법
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제27항에 있어서, 상기 제1 층 또는 상기 제2 층에서 인접한 제어 배선들간 간격은, 상기 제1 층 또는 제2 층이 편광 판으로 기능하기 위해 미리 설정된 간격 이하로 설정되는 방법
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제37항에 있어서, 상기 제1 층 또는 상기 제2 층은, 상기 인접한 제어 배선들간 간격이 미리 설정된 간격 이하로 설정되기 위해, 상기 복수의 유닛 셀들과 전기적으로 연결되지 아니하고, 상기 복수의 유닛 셀들을 제어하는데 사용되지 아니하는 적어도 하나의 더미 배선을 더 포함하는 방법
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