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증착 공간으로 제공되는 코팅 챔버;상기 코팅 챔버의 일 측에 구비되며, 상기 코팅 챔버 내부로 카본 이온을 공급하는 자장 여과 아크 소스 유닛;상기 코팅 챔버의 타 측에 구비되며, 상기 코팅 챔버 내부로 상기 카본 이온과 독립적으로 도핑 원자를 공급하는 이온빔 스퍼터 유닛; 및상기 코팅 챔버의 내부에 구비되며, 상기 카본 이온 및 상기 도핑 원자가 증착되는 피코팅체가 배치되는 홀더;를 포함하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 장치
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청구항 1에 있어서,상기 홀더는, 원통형으로 구비되고, 상기 피코팅체가 상기 자장 여과 아크 소스 유닛 및 상기 이온빔 스퍼터 유닛를 순차로 향하도록 축 회전 가능하게 구비되는 것을 특징으로 하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 장치
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청구항 2에 있어서,상기 이온빔 스퍼터 유닛은, 비활성 가스 이온을 조사하는 이온빔 소스; 및상기 이온빔 소스에서 조사되는 상기 비활성 가스 이온에 의해 도핑 원자를 발생시키는 도핑물질타켓;을 포함하는 것을 특징으로 하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 장치
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청구항 3에 있어서,상기 이온빔 소스의 에너지와 전류를 조절하여 도핑 원자의 농도를 제어하는 것을 특징으로 하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 장치
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청구항 2에 있어서,상기 자장 여과 아크 소스 유닛은, 장착된 흑연소재의 타켓에 스파크를 발생시켜 플라즈마화된 상기 카본 이온을 생성하는 카본 아크 소스;상기 카본 아크 소스로부터 생성된 상기 카본 이온을 상기 피코팅체로 이송하는 이송관; 및상기 이송관을 통해 이송되는 물질 중 비이온화된 입자를 자력에 의해 내벽측에 집속되게 하는 자장 필터;를 포함하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 장치
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자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 방법으로서,증착 공간으로 제공되는 코팅 챔버의 내부에 구비되며, 원통형으로 구비되고, 그 길이방향을 축으로 회전하도록 구비되는 홀더에 피코팅체를 배치하는 단계(S10);상기 코팅 챔버의 일 측에 구비되며, 상기 코팅 챔버 내부로 카본 이온을 공급하는 자장 여과 아크 소스 유닛을 가동하여, 상기 카본 이온을 상기 코팅 챔버의 내부로 공급하는 단계(S20);상기 코팅 챔버의 타 측에 구비되며, 상기 코팅 챔버 내부로 상기 카본 이온과 독립적으로 도핑 원자를 공급하는 이온빔 스퍼터 유닛을 가동하여, 상기 도핑 원자를 상기 코팅 챔버의 내부로 공급하는 단계(S30); 및상기 피코팅체가 상기 자장 여과 아크 소스 유닛 및 상기 이온빔 스퍼터 유닛를 순차로 향하도록 상기 홀더를 회전시켜 상기 도핑 원자와 상기 탄소 이온이 균일하게 증착시키는 단계(S40);을 포함하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 방법
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청구항 6에 있어서,상기 코팅 챔버 내의 압력은 10-5 ~ 10-6 Torr인 것을 특징으로 하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 방법
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청구항 6에 있어서,상기 이온빔 스퍼터 유닛은, 비활성 가스 이온을 조사하는 이온빔 소스; 및상기 이온빔 소스에서 조사되는 상기 비활성 가스 이온에 의해 도핑 원자를 발생시키는 도핑물질타켓;을 포함하며, 상기 이온빔 소스의 에너지와 전류를 조절하여 도핑 원자의 농도를 제어하는 것을 특징으로 하는 자장여과 아크 소스를 이용하여 도핑된 박막을 코팅하는 방법
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