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아민 가교기가 2개 이상 치환된 제1 유기 단분자 화합물;에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제2 유기 단분자 화합물; 및상기 제1 유기 단분자 화합물 및 상기 제2 유기 단분자 화합물을 용해시키는 유기용매를 포함하고,상기 제1 유기 단분자 화합물은 하기 화학식 1 또는 화학식3으로 표시되는 화합물이고,상기 제2 유기 단분자 화합물은 하기 화학식 4 또는 화학식6으로 표시되는 화합물이고,상기 아민 가교기 및 상기 에폭시 가교기 간의 가교결합에 의해 3차원 망상구조를 갖는 박막이 형성가능한 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액:[화학식 1] (상기 화학식 1에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 N 또는 CR11이지만, 동시에 N은 아니고, R11은 수소 또는 탄소수 1내지 10의 알킬기이며,상기 R1 내지 R5 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R6 내지 R10 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 3](상기 화학식 3에서, R27 내지 R31 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R32 내지 R36 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 4](상기 화학식 4에서, X3 및 X4는 각각 독립적으로 N 또는 CR47이지만, 동시에 N은 아니고, R47은 수소 또는 탄소수 1내지 10의 알킬기이며,상기 R37 내지 R41 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R42 내지 R46 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 6](상기 화학식 6에서, R63 내지 R67 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R68 내지 R72 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)
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제 1항에 있어서, 상기 아민기를 포함하는 가교기는 , 또는 인 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 1항에 있어서,상기 에폭시기를 포함하는 가교기는 ,또는 인 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 1항에 있어서,상기 제1 유기 단분자 화합물 또는 제2 유기 단분자 화합물은 정공 수송 특성, 전자 수송 특성, 정공 차단 특성 및 발광 특성 중 선택되는 어느 하나 이상의 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 1항에 있어서,상기 유기용매는 메틸 알코올, 에틸 알코올, n-프로필 알코올, 이소프로필알코올, n-부틸 알코올, 섹-부틸 알코올(sec- butyl alchol), 터트-부틸 알코올 (tert-butyl alcohol), 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 케톤, 아세톤, 디아세톤 알코올, 케토-알코올, 디옥산, 에테르, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세롤, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 2-피롤리돈, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 감마부틸락톤, 부틸셀로졸브, 시클로헥산, N-메틸-2-피롤리돈, 시클로헥사논, 테트라하이드로퓨란, 사염화탄소, 테트라클로로에탄, 옥틸벤젠, 도데실벤젠, 퀴놀린, 트리클로로벤젠, 니트로벤즈알데하이드, 니트로벤젠, 2황화탄소, 2-헵타논, 벤젠, 테르피넬올 및 부틸카르비톨아세테이트 중 선택되는 1종 이상의 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 1항에 있어서,상기 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액으로 박막을 형성한 후에, 상기 박막 상에 유기용매를 도포하여도 상기 가교결합에 의해 상기 박막이 용해되지 않아 다층 박막을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 8항에 있어서,상기 유기 단분자 화합물이 발광 특성을 가질 때, 상기 유기 단분자 화합물은 정공수송 유형 화합물, 전자수송 유형 화합물 및 양극성 수송 유형 화합물 중 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액
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제 1항의 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액을 이용하여 제조된 유기 포토다이오드
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아민 가교기가 2개 이상 치환된 제1유기 단분자 화합물을 준비하는 단계;에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제2유기 단분자 화합물을 준비하는 단계; 및상기 제1유기 단분자 화합물 및 상기 제2유기 단분자 화합물을 유기용매에 용해시켜 코팅액을 제조하는 단계를 포함하고,상기 제1 유기 단분자 화합물은 하기 화학식 1 또는 화학식3으로 표시되는 화합물이고,상기 제2 유기 단분자 화합물은 하기 화학식 4 또는 화학식6으로 표시되는 화합물이고,상기 코팅액을 기판 상에 도포한 후 열처리 할 경우, 상기 아민 가교기가 2개 이상 치환된 제 1유기 단분자 화합물 및 상기 에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제 2 유기 단분자 화합물 간 가교결합을 하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액 제조방법:[화학식 1] (상기 화학식 1에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 N 또는 CR11이지만, 동시에 N은 아니고, R11은 수소 또는 탄소수 1내지 10의 알킬기이며,상기 R1 내지 R5 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R6 내지 R10 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 3](상기 화학식 3에서, R27 내지 R31 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R32 내지 R36 중 적어도 어느 하나 이상은 아민기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 4](상기 화학식 4에서, X3 및 X4는 각각 독립적으로 N 또는 CR47이지만, 동시에 N은 아니고, R47은 수소 또는 탄소수 1내지 10의 알킬기이며,상기 R37 내지 R41 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R42 내지 R46 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)[화학식 6](상기 화학식 6에서, R63 내지 R67 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기이고,상기 R68 내지 R72 중 적어도 어느 하나 이상은 에폭시기를 포함하는 가교기이고, 나머지는 수소 또는 피리딘기임)
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제 11항에 있어서,상기 아민 가교기가 2개 이상 치환된 제1유기 단분자 화합물을 준비하는 단계는,용매에 전구체 및 가교성 화합물을 반응시켜 상기 아민 가교기가 2개 이상 치환된 제1유기 단분자 화합물을 생성하는 것을 특징으로 하고,상기 전구체는 1,3-di(phenyl)benzene, 4,4-Diiodobiphenyl 또는 Tris(4-bromophenyl)amine로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,상기 가교성 화합물은 bromamine, N-Phenyl-p-phenylenediamine 또는 5-bromopyridin-3-amine로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제2유기 단분자 화합물을 준비하는 단계는,용매에 전구체 및 가교성 화합물을 반응시켜 상기 에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제2유기 단분자 화합물을 생성하는 것을 특징으로 하고,상기 전구체는 1,3-di(phenyl)benzene, 4,4-Diiodobiphenyl 또는 Tris(4-bromophenyl)amine로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,상기 가교성 화합물은 epichlorohydrin, 9H-cabazole-3-ethyloxiran 또는 4-Epoxypropanoxycarbazol로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액 제조방법
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제 12항 또는 제 14항에 있어서,상기 각 단계에서 상기 반응은 스즈키 커플링(Suzuki coupling) 반응인 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액 제조방법
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제 12항 또는 제 14항에 있어서,상기 용매는, 벤젠, 톨루엔, 1,4-다이옥산, 테트라하이드로퓨란, 아세토니트릴, 1,2-다이메톡시에탄 및 N, N-다이메틸포름아마이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액 제조방법
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제11항의 제조방법에 의해 제조된 유기 포토다이오드 박막 형성용 코팅액을 준비하는 단계; 및상기 박막 형성용 코팅액을 기판 상에 도포한 후 열처리 하여 박막을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드용 박막 제조방법
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제 19항에 있어서,상기 박막을 형성하는 단계의 열처리로 인해 상기 아민 가교기가 2개 이상 치환된 제 1유기 단분자 화합물 및 상기 에폭시 가교기가 2개 이상 치환된 제 2 유기 단분자 화합물 간의 가교결합이 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드용 박막 제조방법
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제 19항에 있어서,상기 박막을 제조하는 단계 이후에 상기 박막 상에 유기용매를 도포하여도 상기 가교결합에 의하여 상기 박막이 용해되지 않아 다층 박막을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드용 박막 제조방법
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제 19항에 있어서,상기 유기포토다이오드용 박막을 형성하는 단계의 열처리 온도는 50℃ 내지 400℃인 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드용 박막 제조방법
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제 19항의 유기 포토다이오드용 박막 제조방법으로 제조된 유기 포토다이오드용 박막
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제 1전극;제 1 전극과 마주보도록 위치하는 제2전극; 및상기 제 1전극과 제 2전극 사이에 위치하되, 제19항의 유기 포토다이오드용 박막 제조방법에 의해 제조된 유기 포토다이오드용 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드
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제 24항에 있어서,상기 유기 포토다이오드용 박막은 정공 수송층, 전자 수송층, 정공 차단층 및 발광층 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기 포토다이오드
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