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(I) 메조다공성 무기 주형(mesoporous inorganic template)을 중성 팔라듐(Pd0)으로 코팅하는 단계;(II) 상기 팔라듐의 촉매 반응을 통해 메조다공성 무기 주형에, 870℃에서 5×10-4 wt% 이상의 탄소 용해도를 갖는, 제1금속을 도금하는 단계;(III) 상기 제1금속 도금된 메조다공성 무기 주형에 고온에서 탄화할 수 있는 유기고분자를 유입(infiltration)하는 단계;(IV) 어닐링하여 그래핀을 형성하는 단계; 및(V) 제1금속을 제거하는 단계를 포함하는, 메조다공성 무기 주형의 내부 표면을 각인한(imprinting) 3차원 메조다공성 그래핀 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 메조다공성 무기 주형은 평균 직경 2 nm 내지 100 μm의 기공을 갖는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 I 단계에 앞서 산 용액으로 메조다공성 무기 주형을 전처리하는 단계를 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 I 단계는 주석 이온(Sn2+)을 흡착시키는 I-A 단계 및 환원 상태의 팔라듐(Pd0)을 코팅하는 I-B 단계를 포함하는 것인 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 I-A 단계는 감압조건 하에서 주석 이온을 함유하는 산성용액으로 처리하여 수행하는 것인 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 I-B 단계는 감압조건 하에서 팔라듐 이온(Pd2+)을 함유하는 산성용액으로 처리하여 수행하는 것인 제조방법
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제1항 또는 제4항에 있어서, I 단계, I-A 단계, I-B 단계 또는 II 단계 이후 물로 세척하는 단계를 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 II 단계는 감압조건 하에서 제1금속 전구체로서 제1금속 이온(Mn+) 및 환원제를 포함하는 반응용액에 침지시켜 수행하는 것인 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 반응용액은 착화제, 안정제 또는 둘 모두를 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 반응용액은 pH가 8 내지 13으로 조절된 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 III 단계는 감압조건 하에서 유기용매에 고온에서 탄화할 수 있는 유기고분자 또는 상기 고분자를 구성하는 단량체 및 중합 개시제를 용해시킨 용액에 침지시키고 80 내지 120℃에서 유기용매를 증발시켜 수행하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 III 단계 이후 잔류하는 유기용매를 제거하기 위하여 100 내지 150℃에서 진공조건 하에 건조하는 III-A 단계를 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 IV 단계는 환원용 기체 200 내지 300 sccm 및 불활성 기체 600 내지 1000 sccm의 기체 흐름(gas flow) 조건 하에, 800 내지 1300℃에서 수행하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 V 단계는 감압조건 하에서 황산구리(CuSO4)를 함유하는 산성 용액으로 처리하여 수행하는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 V 단계 이후, 무기 주형을 제거하는 VI 단계를 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 VI 단계는 불산(HF) 용액으로 처리하거나, pH 12 이상의 염기성 용액에서 150 내지 200℃의 고온에서 수열처리(hydrothermal)하여 수행하는 것인 제조방법
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제1항 내지 제6항 및 제8항 내지 제16항 중 어느 한 항에 기재된 방법으로 제조된 것으로, 규칙적인 3차원 메조다공성 무기 주형의 내부 표면을 각인한, 규칙적인 3차원 메조다공 형상의 그래핀 구조체
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제17항에 있어서, 상기 그래핀 구조체는 무기 주형을 추가로 포함하는 것인, 규칙적인 3차원 메조다공 형상의 그래핀 구조체
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제17항에 있어서, 메조다공성 무기 주형의 내부 표면을 각인하되 외부 표면은 불포함하여 형성된 것인, 규칙적인 3차원 메조다공 형상의 그래핀 구조체
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제17항, 제19항 및 제20항 중 어느 한 항의 규칙적인 3차원 메조다공 형상의 그래핀 구조체를 포함하는 촉매 조성물
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제17항, 제19항 및 제20항 중 어느 한 항의 규칙적인 3차원 메조다공 형상의 그래핀 구조체를 포함하는 전극
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