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유수분리필터 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019002172
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 저비용으로 단시간에 제조가능한 우수한 성능의 유수분리필터 및 그의 제조방법이 제안된다. 본 발명에 따른 유수분리필터는 정화대상물의 이동이 가능한 개구부를 포함하는 기판 및 기판의 표면에 형성된 유수분리막으로서, 소수성 및 친유성을 나타내는 제1분리막, 및 소수성 및 소유성을 나타내는 제2분리막을 포함하는 유수분리막을 포함한다.
Int. CL B01D 71/00 (2006.01.01) B01D 17/02 (2006.01.01) C02F 1/40 (2006.01.01)
CPC B01D 71/00(2013.01) B01D 71/00(2013.01) B01D 71/00(2013.01)
출원번호/일자 1020170112490 (2017.09.04)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자 10-2049150-0000 (2019.11.20)
공개번호/일자 10-2019-0026137 (2019.03.13) 문서열기
공고번호/일자 (20191127) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.09.04)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문세연 대한민국 전라북도 군산

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.09.04 수리 (Accepted) 1-1-2017-0855543-80
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.11.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.12.12 수리 (Accepted) 9-1-2017-0044417-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0570331-37
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-1037253-48
6 보정요구서
Request for Amendment
2018.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0168072-89
7 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2018.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-1072053-89
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.11.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-1166001-42
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-1165975-18
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0229443-77
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.04.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0438019-21
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2019-0437986-78
14 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0389778-64
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
17 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2019-0785307-15
18 보정요구서
Request for Amendment
2019.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0131782-66
19 [출원서 등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2019.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-0817319-58
20 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.08.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0895471-97
21 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-0895445-10
22 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.10.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0752403-85
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
정화대상물의 이동이 가능한 개구부를 포함하는 기판; 및 상기 기판의 표면에 형성된 유수분리막으로서, CxHy, CxFyHz, SxFyHz, NxFyHz, CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x, y 및 z는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 친유성을 나타내는 제1분리막, 및 CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x 및 y는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 소유성을 나타내는 제2분리막을 포함하는 유수분리막;을 포함하는 유수분리필터로서,상기 제2분리막은 CxHy를 포함하지 않아 소유성을 나타내고,상기 제1분리막 및 상기 제2분리막은 플라즈마 처리에 의해 소수성, 소유성 및 친유성 중 적어도 하나의 기능을 향상시키는 나노구조 및 마이크로 구조 중 적어도 하나의 구조가 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 유수분리필터
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 기판은 섬유메쉬, 메탈메쉬, 유기계메쉬, 고분자메쉬 및 세라믹메쉬 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유수분리필터
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 제1분리막은 상기 기판의 정화대상물이 투입되는 제1면에 위치하고, 상기 제2분리막은 상기 정화대상물이 투과되는 제2면에 위치하는 것을 특징으로 하는 유수분리필터
6 6
정화대상물의 이동이 가능한 개구부를 포함하는 기판 및 상기 기판의 표면에 형성된 유수분리막으로서, CxHy, CxFyHz, SxFyHz, NxFyHz, CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x, y 및 z는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 친유성을 나타내는 제1분리막 및 CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x 및 y는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 소유성을 나타내는 제2분리막을 포함하는 유수분리막을 포함하는 유수분리필터를 포함하는 기름회수장치로서, 상기 제2분리막은 CxHy를 포함하지 않아 소유성을 나타내고,상기 제1분리막 및 상기 제2분리막은 플라즈마 처리에 의해 소수성, 소유성 및 친유성 중 적어도 하나의 기능을 향상시키는 나노구조 및 마이크로 구조 중 적어도 하나의 구조가 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 기름회수장치
7 7
정화대상물의 이동이 가능한 개구부를 포함하는 기판 및 상기 기판의 표면에 형성된 유수분리막으로서, CxHy, CxFyHz, SxFyHz, NxFyHz, CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x, y 및 z는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 친유성을 나타내는 제1분리막 및 CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물(x 및 y는 1 내지 30 사이의 정수이다)을 포함하여 소수성 및 소유성을 나타내는 제2분리막을 포함하는 유수분리막을 포함하는 유수분리필터를 포함하는 물회수장치로서, 상기 제2분리막은 CxHy를 포함하지 않아 소유성을 나타내고,상기 제1분리막 및 상기 제2분리막은 플라즈마 처리에 의해 소수성, 소유성 및 친유성 중 적어도 하나의 기능을 향상시키는 나노구조 및 마이크로 구조 중 적어도 하나의 구조가 표면에 형성되는 특징으로 하는 물회수장치
8 8
정화대상물의 이동이 가능한 개구부를 포함하는 기판의 제1면에, CxHy, CxFyHz, SxFyHz, 및 NxFyHz 중 적어도 하나의 가스와 CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물 가스(x, y 및 z는 1 내지 30 사이의 정수이다)를 동시에 공급하여 대기압 저온 플라즈마 처리하여 소수성 및 친유성을 나타내는 제1분리막을 형성하는 제1단계; 및상기 기판의 제2면에 CxFy, SxFy 및 NxFy 중 적어도 하나의 불소화합물 가스(x 및 y는 1 내지 30 사이의 정수이다)를 대기압 저온 플라즈마 처리하여 소수성 및 소유성을 나타내는 제2분리막을 형성하는 제2단계;를 포함하는 유수분리필터 제조방법으로서, 상기 제2분리막은 CxHy를 포함하지 않아 소유성을 나타내고,상기 제1분리막 및 상기 제2분리막은 플라즈마 처리에 의해 소수성, 소유성 및 친유성 중 적어도 하나의 기능을 향상시키는 나노구조 및 마이크로 구조 중 적어도 하나의 구조가 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 유수분리필터 제조방법
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
청구항 8에 있어서, 플라즈마의 발생원은 전원이 10 KHz 내지 40MHz인 것을 특징으로 하는 유수분리필터 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2019045279 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2019045279 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.