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기판 세정 조성물, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2019002541
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 세정 조성물, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 세정 조성물은 공용매와; [화학식: O=P-(O-R)3, R: CH3-(CH2)n-1, n:1~4]의 화합물, 아황산디메틸 또는 아황산디에틸에서 선택되는 것 또는 이들의 조합으로 이루어지는 바인더를 포함하는 기판 세정 조성물을 포함한다.
Int. CL C11D 11/00 (2006.01.01) C11D 7/28 (2006.01.01) C11D 7/36 (2006.01.01) C11D 7/50 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180106336 (2018.09.06)
출원인 세메스 주식회사, 부경대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2152911-0000 (2020.09.01)
공개번호/일자 10-2019-0030609 (2019.03.22) 문서열기
공고번호/일자 (20200908) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020170117829   |   2017.09.14
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.09.06)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 세메스 주식회사 대한민국 충청남도 천안시 서북구
2 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최해원 대전광역시 유성구
2 강기문 경기도 용인시 기흥구
3 최기훈 충청남도 천안시 동남구
4 커랴킨 충청남도 천안시 서북구
5 허찬영 경기도 화성
6 이재성 경기도 화성시 영통로**번길 **
7 임권택 부산광역시 부산진구
8 김용훈 부산광역시 남구
9 이상호 부산광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
2 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 세메스 주식회사 충청남도 천안시 서북구
2 부경대학교 산학협력단 부산광역시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0885865-58
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2019-5132722-09
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5161225-98
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0602441-81
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-1070435-15
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-1200082-52
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.12.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1329218-11
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2019-1329217-65
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2019-5277245-32
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2020.04.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0256821-79
11 [법정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2020-0461349-36
12 법정기간연장승인서
2020.05.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0066660-15
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2020-0592175-27
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2020.06.09 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2020-0592176-73
15 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0414368-59
16 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.07.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0743234-21
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2020-0743233-86
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2020-5172403-90
19 등록결정서
Decision to Grant Registration
2020.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0569571-12
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번호 청구항
1 1
기판에 대하여 SiO2 또는 Si3N4에 의해 생성되는 파티클을 제거하는 기판 세정 조성물에 있어서,이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 또는 이들의 조합으로 제공되는 공용매와;트리메틸인산염으로 제공되는 바인더와;불소를 포함하는 식각 화합물을 포함하고,상기 식각 화합물은 0
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1 항에 있어서,상기 식각 화합물은 불화수소인 기판 세정 조성물
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
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9 9
제1 항에 있어서,상기 공용매와 상기 바인더는 1:1 중량비로 제공되는 기판 세정 조성물
10 10
제1 항에 있어서,상기 기판 세정 조성물은, 나노스케일(100nm이하) 크기의 파티클을 제거하는 기판 세정 조성물
11 11
초임계 유체와 혼합되어 공급되되, 기판에 대하여 SiO2 또는 Si3N4에 의해 생성되는 파티클을 제거하는 기판 세정 조성물로서, 상기 기판 세정 조성물은, 불소를 포함하는 식각 화합물과, 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 또는 이들의 조합으로 제공되는 공용매에 용해된 트리메틸인산염으로 제공되는 바인더를 포함하는 무수(anhydrous) 조성물이고,상기 식각 화합물은 0
12 12
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13 13
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14 14
제11 항에 있어서,상기 식각 화합물은 불화수소인 기판 세정 조성물
15 15
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16 16
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17 17
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18 18
삭제
19 19
제11 항에 있어서,상기 바인더와 상기 바인더를 용해하는 공용매는 1:1 중량비로 제공되는 기판 세정 조성물
20 20
제11 항에 있어서,상기 기판 세정 조성물은, 나노스케일(≤100nm) 크기의 파티클을 제거하는 기판 세정 조성물
21 21
제1 항 또는 제11 항의 기판 세정 조성물을 기판에 공급하는 단계; 및상기 기판에 초임계 유체를 공급하여 기판을 처리하는 단계를 포함하는 기판 처리 방법
22 22
챔버;상기 챔버 내측에 위치되어 기판을 지지하는 지지 유닛;상기 챔버의 내측으로 기판 세정 조성물을 초임계 유체와 혼합하여 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하되,상기 기판 세정 조성물은 제1 항 또는 제11 항의 기판 세정 조성물인 기판 처리 장치
23 23
제22 항에 있어서,상기 유체 공급 유닛은 상기 챔버에 연결되어 상기 기판 세정 조성물과 상기 초임계 유체를 상기 챔버의 내측 공간으로 공급하는 복수의 유체 공급 포트를 포함하는 기판 처리 장치
24 24
제22 항에 있어서,상기 유체 공급 유닛은 상기 챔버에 연결되고 상기 기판 세정 조성물과 상기 초임계 유체를 상기 챔버의 내측 공간으로 공급하는 유체 공급 포트와;상기 챔버의 내측 공간에서 기판의 상부에 위치되어 상기 기판 세정 조성물과 상기 초임계 유체를 상기 기판에 분배하는 샤워 헤드를 더 포함하는 기판 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN109509699 CN 중국 FAMILY
2 US20190080902 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN109509699 CN 중국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.