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베이스 패턴이 형성된 베이스 기판을 준비하는 단계; 상기 베이스 패턴의 제1 영역을 노출시키고, 상기 제1 영역을 제외한 나머지 영역을 덮는 제1 쉐도우 마스크(shadow mask)를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계; 노출된 상기 제1 영역 상에 제1 기능성 물질을 제공하는 단계; 상기 베이스 기판으로부터 상기 제1 쉐도우 마스크를 제거하는 단계; 상기 베이스 패턴의 제2 영역을 노출시키고, 상기 제2 영역을 제외한 나머지 영역을 덮는 제2 쉐도우 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계;노출된 상기 제2 영역 상에 상기 제1 기능성 물질과 다른 특성을 갖는 제2 기능성 물질을 제공하는 단계; 상기 베이스 기판으로부터 상기 제2 쉐도우 마스크를 제거하는 단계; 상기 제1 및 제2 기능성 물질이 제공된 상기 베이스 기판을 타겟 기판과 접촉시켜, 상기 제1 및 제2 기능성 물질을 동시에 상기 타겟 기판 상에 전사하는 단계; 및상기 제1 및 제2 기능성 물질이 제공된 상기 타겟 기판을 컨트롤 패턴이 형성된 컨트롤 기판과 접촉시켜, 상기 타겟 기판 상에 전사된 상기 제1 및 제2 기능성 물질의 형상을 변형시키는 단계를 포함하되,상기 제1 및 제2 기능성 물질의 볼록부 및 상기 컨트롤 패턴의 볼록부의 적어도 일부가 중첩되도록 접촉되고,상기 제1 및 제2 기능성 물질의 오목부 및 상기 컨트롤 패턴의 오목부의 적어도 일부가 중첩되도록 접촉되어 변형되는 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은, 상기 베이스 기판 상의 서로 다른 영역인 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 쉐도우 마스크 및 상기 제2 쉐도우 마스크는 서로 동일한 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제3 항에 있어서, 상기 제1 쉐도우 마스크는 개구부를 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제4 항에 있어서, 상기 제1 쉐도우 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는, 상기 제1 쉐도우 마스크의 상기 개구부가 상기 제1 영역 상에 배치되는 것을 포함하고, 상기 제2 쉐도우 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는, 상기 제2 쉐도우 마스크의 상기 개구부가 상기 제2 영역 상에 배치되는 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 쉐도우 마스크 및 상기 제2 쉐도우 마스크는 서로 다른 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제6 항에 있어서, 상기 제2 쉐도우 마스크는, 제1 부분, 및 상기 제1 부분보다 두께가 두꺼운 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 부분은 상기 제1 영역을 덮고, 상기 제2 부분은 상기 제1 영역을 제외한 영역을 덮는 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제7 항에 있어서, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분의 두께의 차이는, 상기 제1 기능성 물질의 두께와 같은 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 패턴이 형성된 베이스 기판을 준비하는 단계는, 마스터 패턴을 포함하는 마스터 기판을 준비하는 단계;상기 마스터 기판 상에 연성 물질을 제공하는 단계; 및상기 연성 물질을 상기 마스터 기판으로부터 분리하여, 상기 마스터 패턴의 역상을 갖는 상기 베이스 패턴을 포함하는 상기 베이스 기판을 제조하는 단계를 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 쉐도우 마스크는, 상기 제1 및 제2 기능성 물질보다 경도가 낮은 물질로 이루어진 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제1 항에 따른 다기능 미세 패턴의 제조 방법으로 형성된 상기 제1 및 제2 기능성 물질이 적용된 소자(device)로서, 센서, 저항 메모리, 상변화 메모리, 히팅 전극(heating electrode), 감지 전극, 또는 촉매를 포함하는 소자
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베이스 패턴이 형성된 베이스 기판을 준비하는 단계; 상기 베이스 패턴의 제1 및 제2 영역을 노출시키는 제1 및 제2 개구부를 포함하고, 상기 제1 및 제2 영역을 제외한 나머지 영역을 덮는 쉐도우 마스크(shadow mask)를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계; 상기 베이스 패턴의 제1 영역을 노출시키고, 상기 제2 영역을 덮는 제1 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계; 노출된 상기 제1 영역 상에 제1 기능성 물질을 제공하는 단계;상기 쉐도우 마스크로부터 상기 제1 보조 마스크를 제거하는 단계; 상기 베이스 패턴의 제2 영역을 노출시키고, 상기 제1 영역을 덮는 제2 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계; 노출된 상기 제2 영역 상에 제2 기능성 물질을 제공하는 단계;상기 쉐도우 마스크로부터 상기 제2 보조 마스크를 제거하는 단계; 및 상기 제1 및 제2 기능성 물질이 제공된 상기 베이스 기판을 타겟 기판과 접촉시켜, 상기 제1 및 제2 기능성 물질을 동시에 상기 타겟 기판 상에 전사하는 단계를 포함하되,상기 쉐도우 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 쉐도우 마스크의 상기 제1 및 제2 개구부가 각각 상기 제1 및 제2 영역 상에 배치되는 것을 포함하고,상기 제1 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 제1 보조 마스크가 상기 제2 영역 상에 배치되는 것을 포함하고,상기 제2 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 제2 보조 마스크가 상기 제1 영역 상에 배치되는 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제13 항에 있어서, 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은 상기 베이스 기판 상의 서로 다른 영역인 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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제13 항에 있어서,상기 제1 보조 마스크 및 상기 제2 보조 마스크는 개구부를 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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베이스 패턴이 형성된 베이스 기판을 준비하는 단계;상기 베이스 패턴의 제1 및 제2 영역을 노출시키는 제1 및 제2 개구부를 포함하고, 상기 제1 및 제2 영역을 제외한 나머지 영역을 덮는 쉐도우 마스크(shadow mask)를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계;상기 베이스 패턴의 제1 영역을 노출시키고, 상기 제2 영역을 덮는 제1 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계;노출된 상기 제1 영역 상에 제1 기능성 물질을 제공하는 단계;상기 쉐도우 마스크로부터 상기 제1 보조 마스크를 제거하는 단계;상기 베이스 패턴의 제2 영역을 노출시키고, 상기 제1 영역을 덮는 제2 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계;노출된 상기 제2 영역 상에 제2 기능성 물질을 제공하는 단계;상기 쉐도우 마스크로부터 상기 제2 보조 마스크를 제거하는 단계; 및상기 제1 및 제2 기능성 물질이 제공된 상기 베이스 기판을 타겟 기판과 접촉시켜, 상기 제1 및 제2 기능성 물질을 동시에 상기 타겟 기판 상에 전사하는 단계를 포함하되,상기 제1 보조 마스크 및 상기 제2 보조 마스크는 개구부를 포함하고, 상기 쉐도우 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 쉐도우 마스크의 상기 제1 및 제2 개구부가 각각 상기 제1 및 제2 영역 상에 배치되는 것을 포함하고,상기 제1 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 제1 보조 마스크의 상기 보조 개구부가 상기 제1 영역 상에 배치되는 것을 포함하고,상기 제2 보조 마스크를 상기 베이스 기판 상에 배치하는 단계는,상기 제2 보조 마스크의 상기 보조 개구부가 상기 제2 영역 상에 배치되는 것을 포함하는 다기능 미세 패턴의 제조 방법
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