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마이크로파 공급부를 포함하는 입력부;방사형 슬릿이 형성되고, 하부로 갈수록 직경이 넓어지며, 내부가 빈 콘 형상의 내부 도전체와, 상기 슬릿을 통과하는 마이크로파에 대응하는 자기장을 형성하기 위해 외부 도전체의 외부에 배열된 영구자석을 포함하며 상기 입력부의 하부로 연장되는 본체부; 및이온빔을 인출하는 인출전극을 포함하며 상기 본체부의 하부로 연장되는 출력부;를 포함하되,상기 이온빔은 상기 본체부의 ECR 현상에 의해 발생한 플라즈마로부터 인출되는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 입력부는 동축케이블 방식으로 전력을 인가하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 방사형 슬릿은 상기 콘 형상의 내부 도전체 둘레를 따라 4개의 슬릿이 각각 85°씩 오픈되어 형성된 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제3항에 있어서,상기 방사형 슬릿은 상기 내부 도전체의 하단부로부터 18mm 떨어진 지점에 4
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제1항에 있어서,상기 외부 도전체 외부에 배열된 상기 영구자석은 상기 방사형 슬릿의 수와 동일하게 구비되고, 상기 방사형 슬릿의 중심부와 상기 영구자석의 중앙부가 일치하도록 배열되는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제5항에 있어서,상기 영구자석은 인접한 영구자석 간에 서로 상대되는 자기극을 가지도록 배열되는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 콘 형상의 내부 도전체의 내부는 퀄츠 또는 세라믹을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 외부 도전체와 상기 내부 도전체 사이에는 유전물질이 삽입되는 것을 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제8항에 있어서,상기 유전물질은 AlN인 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 내부 도전체의 하단부는 상기 외부 도전체와 연결되어 상기 슬릿을 통과하지 못한 마이크로파가 상기 외부 도전체를 통해 외부로 쉽게 빠져나가도록 표면전류 통로를 형성하여 안정적인 플라즈마 발생을 유도하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 입력부는 냉각수 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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제1항에 있어서,상기 출력부는 상기 인출된 이온빔에 전자를 공급하여 중성화시키는 필라멘트로 형성된 뉴트럴라이저를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공·주입을 위한 소형의 콘타입 마이크로파 ECR 플라즈마 발생원
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