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밀폐된 공간을 이루는 챔버, 상기 챔버에 구비되는 전자총, 상기 밀폐된 공간 내에 상기 전자총과 대향되게 구비되는 시료금속으로 이루어진 장치에 있어서,전자총을 통하여 시료금속에 전자를 조사하는 전자조사단계;상기 시료금속에 전압을 인가하는 하여 측정되는 상기 시료금속의 전압에 따른 시료전류을 측정하는 시료전류측정단계;상기 측정된 시료전류를 통하여 이차전자전류를 산출하는 이차전자전류산출단계; 및상기 측정된 시료전류 및 산출된 이차전자전류의 합을 유효입사전류로 정의하는 유효입사전류정의단계;를 포함하는 전자이동도 측정방법
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제 1항에 있어서,상기 정의된 유효입사전류의 값 및 (수식4)를 이용하여 시료금속에서의 전자의 이동도를 측정하는 전자이동도 측정단계를 더 포함하는 전자이동도 측정방법
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제 1항에 있어서,상기 이차전자전류산출단계는, 상기 측정된 시료전류의 값을 미분하여 운동에너지에 따른 이차전자분포에 대한 데이터를 확보하는 과정, 확보된 데이터의 분포에 대한 개략적인 곡선을 산출하고, 산출된 곡선과 유사한 형태의 곡선이 도출되는 수학식을 선택하는 과정, 상기 도출된 수학식에 따른 그래프를 상기 데이터의 분포에 대한 곡선으로 피팅하는 과정 및 피팅된 곡선을 전압에 대하여 적분하여 이차전자전류 데이터를 확보하는 과정을 포함하는 전자 이동도 측정방법
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밀폐된 공간을 이루는 챔버, 상기 챔버에 구비되는 광자공급기, 상기 밀폐된 공간 내에 상기 광자공급기와 대향되게 구비되는 시료금속으로 이루어진 장치에 있어서,광자공급기을 통하여 시료금속에 광자를 조사하는 전자조사단계;상기 시료금속에 전압을 인가하는 하여 측정되는 상기 시료금속의 전압에 따른 시료전류을 측정하는 시료전류측정단계;상기 측정된 시료전류를 통하여 이차전자전류를 산출하는 이차전자전류산출단계; 상기 측정된 시료전류 및 산출된 이차전자전류의 합을 유효입사전류로 정의하는 유효입사전류정의단계;를 포함하는 정공이동도 측정방법
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제 4항에 있어서,상기 정의된 유효입사전류의 값 및 (수식4)를 이용하여시료금속에서의 정공이동도를 측정하는 정공이동도 측정단계를 더 포함하는 정공이동도 측정방법
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제 4항에 있어서,상기 이차전자전류산출단계는, 상기 측정된 시료전류의 값을 미분하여 운동에너지에 따른 이차전자분포에 대한 데이터를 확보하는 과정, 확보된 데이터의 분포에 대한 개략적인 곡선을 산출하고, 산출된 곡선과 유사한 형태의 곡선이 도출되는 수학식을 선택하는 과정, 상기 도출된 수학식에 따른 그래프를 상기 데이터의 분포에 대한 곡선으로 피팅하는 과정 및 피팅된 곡선을 전압에 대하여 적분하여 이차전자전류 데이터를 확보하는 과정을 포함하는 정공이동도 측정방법
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7
밀폐된 공간을 이루는 챔버;상기 챔버에 구비되어 상기 밀폐공간로 전자빔을 조사하는 전자총;상기 밀폐된 공간 내에 상기 전자총과 대향되게 구비되는 시료금속; 및상기 시료금속에 전압을 인가하는 전압기; 및상기 전압기를 통하여 인가되는 전압에 따른 전류를 측정하는 전류측정기를 포함하는 전자이동도 측정장치
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제7항에 있어서, 상기 시료금속은 활성층 및 활성층 후면에 위치하는 전극을 포함하고, 상기 잔압기 및 전류측정기는 상기 전극과 전기적으로 연결되는 전자이동도 측정장치
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9
밀폐된 공간을 이루는 챔버;상기 챔버에 구비되어 상기 밀폐공간로 광자를 조사하는 광자공급기;상기 밀폐된 공간 내에 상기 광자공급기과 대향되게 구비되는 시료금속; 및상기 시료금속에 전압을 인가하는 전압기; 및상기 전압기를 통하여 인가되는 전압에 따른 전류를 측정하는 전류측정기를 포함하는 정공이동도 측정장치
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제8항에 있어서, 상기 시료금속은 활성층 및 활성층 후면에 위치하는 전극을 포함하고, 상기 전압기 및 전류측정기는 상기 전극과 전기적으로 연결되는 정공이동도 측정장치
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