요약 | 본 발명은 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템에 관한 것으로, 웨이퍼의 식각 또는 표면처리를 위한 플라즈마가 발생되는 챔버(10)와; 챔버(10)의 일측에 설치되면서 챔버(10)의 내부를 고진공 상태로 만드는 터보펌프(20)와; 터보펌프(20)와 제1 유로(L1)를 통해 연결되면서 터보펌프(20)의 진공펌핑을 조력하는 드라이펌프(30) 및; 제1 유로(L1)상에 설치되면서 터보펌프(20)에 의해 챔버(10)에서 배출되는 공정가스를 분리 회수하는 멤브레인필터(40); 를 포함하고, 챔버(10)로 공급되는 공정가스는 플루오르카본계 전구체가 사용되는 것을 특징으로 한다. 상기와 같은 구성에 의해 본 발명은 지구 온난화 지수(GWP)가 낮은 플루오르카본계 전구체를 공정가스로 사용하면서도 멤브레인을 통해 사용된 공정가스를 배출가스로부터 분리하여 회수할 수 있다. |
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Int. CL | H01L 21/67 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) |
CPC | H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020170126691 (2017.09.29) |
출원인 | 대전대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2019-0037411 (2019.04.08) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 취하 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | N |
심사청구항수 | 3 |