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광이 입력되는 광입력단;상기 광입력단을 통하여 입력되는 광이 복합 테이퍼형 도파로를 진행해 가면서 모드 간의 상대적인 위상차가 테이퍼의 형상에 따라 변하고, 광 도파모드를 변화시키는 간섭 및 도파모드 변화 영역;상기 간섭 및 도파모드 변화 영역에서의 위상차에 따른 간섭과 도파모드의 변화에 의한 광을 분배하여 출력하는 광출력단;를 포함하는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 간섭 및 도파모드 변화 영역의 복합 테이퍼형 도파로는,광입력단에서 멀어질수록 평면에서의 너비가 점차 넓어지는 테이퍼 영역과,테이퍼 영역에서 연속되어 광출력단으로 가까워질수록 평면에서의 너비가 점차 좁아지는 역 테이퍼 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 2 항에 있어서, 광 진행 경로상에서의 테이퍼 영역과 역 테이퍼 영역의 길이는,역 테이퍼 영역의 길이가 더 큰 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 2 항에 있어서, 광 진행 경로상에서의 테이퍼 영역과 역 테이퍼 영역의 길이의 비는,위상차에 따른 간섭과 도파모드의 변화 정도를 기준으로 결정되는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 폴리머로 제작되는 광 수동소자 형태를 갖고, 다채널 광대역 광신호 분배를 하는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 간섭 및 도파모드 변화 영역은,광입력단과 연결되고 광입력단에서 멀어질수록 평면에서의 너비가 점차 넓어지는 테이퍼 영역을 구비하여 광입력단과 직각이 되는 도파로 영역을 줄이고,광의 스폿 사이즈(Spot size)를 늘리며 테이퍼 영역에서 연속되어 광출력단으로 가까워질수록 평면에서의 너비가 점차 좁아지는 역 테이퍼 영역의 길이를 줄이는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 간섭 및 도파모드 변화 영역은,광입력단과 연결되고 광입력단에서 멀어질수록 평면에서의 너비가 점차 넓어지는 테이퍼 영역을 구비하여 광입력단과 직각이 되는 도파로 영역을 줄여 디몰딩(Demolding) 공정 시 패턴이 끼이는 현상을 억제하는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 간섭 및 도파모드 변화 영역은,광출력단으로 가까워질수록 평면에서의 너비가 점차 좁아지는 역 테이퍼 영역을 구비하여,광의 진행 시 모드가 증가하며 발생하는 위상차에 따른 간섭과 도파모드의 변화에 의해 광출력단으로 출력되는 광의 양이 균일하게 출력되도록 하고, 특정 파장에 대한 손실을 억제하는 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 간섭 및 도파모드 변화 영역은 전체 영역에서 두께가 균일한 것을 특징으로 하는 테이퍼형 광 간섭 원리를 이용한 다채널 광대역 광신호 분배를 위한 장치
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