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모터에 의해 회전이 가능한 롤 스탬프(몰드) 및 몰드 옆에서 압력을 주는 두 개의 보조 롤;몰드와 일정한 간격을 두고 직접적으로 레지스트를 코팅할 수 있으며 도포량을 조절할 수 있는 노즐;회전 방향으로 코팅노즐 다음으로 레지스트를 마이크로/나노 패턴사이로 채워주며 일정부분 몰드 표면의 레지스트를 제거해주는 스퀴지 블레이드;잔여층을 제거해주는 블레이드 형태의 스펀지;를 포함하며,롤 몰드가 회전함에 따라 롤 몰드에 레지스트가 코팅되며 스퀴지 블레이드를 지나 블레이드 형태의 스펀지를 지나 롤 몰드가 웹과 접촉하며 가압된 상태로 레지스트가 경화되어 마이크로/나노 패턴이 형성되며 잔류층이 제거 및 최소화되는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 1 항에 있어서, 롤 몰드와 2개의 보조 롤은 알루미늄 금속소재이며 사이 간격은 1마이크로미터에서 0
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제 1 항에 있어서, 롤 몰드에 직접적으로 코팅하는 방법으로는,스프레이(Spray), 드랍 캐스팅(Drop-casting), 슬롯다이(Slot-die), 디스펜서(Dispenser), 닥터블레이드(Dr
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제 1 항에 있어서, 롤 몰드의 재료는 니켈, 니켈 합금, PDMS, PFPE, ETFE, PUA, Ormo인 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 1 항에 있어서, 레지스트는 uv경화 및 임프린트가 가능한 소재이며 웹, 레지스트, 롤 몰드 사이의 접착력은 웹-레지스트 003e# 롤 몰드-레지스트를 만족하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 1 항에 있어서, 스퀴지 블레이드는 고무재질로 말단 부분이 삼격형, 사각형, 마름모, 육각형 형태의 어느 하나이고, 내화학성을 갖는 소재를 사용하며 변형을 방지하기 위한 지지층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 1 항에 있어서, 스펀지는 레지스트를 흡수하는 폼 형태를 가지는 폴리머소재인 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 스퀴지 블레이드 및 스펀지를 롤 몰드와 접촉하여 있으며 롤 몰드 중심에서 0~180° 사이에 각도를 가지며 롤 몰드에 압력을 가하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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제 1 항에 있어서, 레지스트-롤 몰드 접착력을 낮게 하기 위해 롤 몰드에 플루오린 화합물 처리를 하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 장치
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모터에 의해 회전이 가능한 롤 스탬프(몰드) 및 몰드 옆에서 압력을 주는 두 개의 보조 롤, 몰드와 일정한 간격을 두고 직접적으로 레지스트를 코팅할 수 있으며 도포량을 조절할 수 있는 노즐, 회전 방향으로 코팅노즐 다음으로 레지스트를 마이크로/나노 패턴사이로 채워주며 일정부분 몰드 표면의 레지스트를 제거해주는 스퀴지 블레이드, 잔여층을 제거해주는 블레이드 형태의 스펀지;를 포함하는 패턴 전사 장치를 이용하여,롤 몰드가 회전함에 따라 롤 몰드에 레지스트가 코팅되며 스퀴지 블레이드를 지나 블레이드 형태의 스펀지를 지나 롤 몰드가 웹과 접촉하며 가압된 상태로 레지스트가 경화되어 마이크로/나노 패턴이 형성되며 잔류층이 제거 및 최소화되도록 하는 것을 특징으로 하는 자외선 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에서 잔류층이 없는 패턴전사 방법
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