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플라즈마 피부처리 장치로서,기둥형 외벽;상기 외벽 내부에 외벽과 이격 되어 배치되되 외벽의 형상과 동축으로 배치되며 길이가 외벽에 비해 더 짧고 속이 빈 기둥형 내벽; 및상기 외벽과 내벽 사이의 공간에 하나 이상 설치되는 플라즈마 소스;를 포함한 헤드부: 및상기 헤드부에 연결된 몸체부:를 포함하고,상기 몸체부는, 기류를 형성하는 공기흡입장치;상기 공기흡입장치의 후단에 배치되는 탄소 필터; 상기 탄소 필터 후단에 배치되는 고전압을 출력하는 전원장치; 및공기 배출구;를 포함하며,상기 외벽의 하부가 피부와 접촉하여 상기 헤드부 하부에 격리된 공간이 형성되고,두 전극을 갖는 상기 플라즈마 소스는 인체 피부에 닿지 않도록 설치되고,상기 플라즈마 소스의 두 전극은 몸체부의 고전압 전원장치의 두 개의 고전압 출력단에 연결되어 플라즈마가 발생하며,발생된 플라즈마와 활성종이 상기 공기흡입장치에 의하여 플라즈마 흐름을 형성하여 헤드부의 내벽과 외벽 사이를 타고 하강하여 피부에 플라즈마가 흡착되고 상기 내벽 중심부를 타고 상승하여, 상기 플라즈마 발생으로 생성되는 오존은 상기 공기흡입장치에 의해 탄소필터를 거쳐 산소로 변환되어 상기 공기 배출구를 통하여 배출되는 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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플라즈마 피부처리 장치로서,기둥형 외벽;상기 외벽 내부에 외벽과 이격 되어 배치되되 외벽의 형상과 동축으로 배치되며 길이가 외벽에 비해 더 짧고 저면에 개구부를 구비한 속이 빈 내벽; 및상기 내벽의 내부 공간에 하나 이상 설치되는 플라즈마 소스;를 포함한 헤드부: 및상기 헤드부에 연결된 몸체부:를 포함하고,상기 몸체부는, 기류를 형성하는 공기흡입장치;상기 공기흡입장치의 후단에 배치되는 탄소 필터; 상기 탄소 필터 후단에 배치되는 고전압을 출력하는 전원장치; 및공기 배출구;를 포함하며,상기 외벽의 하부가 피부와 접촉하여 상기 헤드부 하부에 격리된 공간이 형성되고,두 전극을 갖는 상기 플라즈마 소스는 인체 피부에 닿지 않도록 설치되고,상기 플라즈마 소스의 두 전극은 몸체부의 고전압 전원장치의 두 개의 고전압 출력단에 연결되어 플라즈마가 발생하며,발생된 플라즈마와 활성종이 상기 공기흡입장치에 의하여 플라즈마 흐름을 형성하여 헤드부의 내벽과 외벽 사이를 타고 하강하여 피부에 플라즈마가 흡착되고 다시 상승하여, 상기 플라즈마 발생으로 생성되는 오존은 상기 공기흡입장치에 의해 탄소필터를 거쳐 산소로 변환되어 상기 공기 배출구를 통하여 배출되는 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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제1항에 있어서, 상기 공기 흡입장치는 팬 또는 공기펌프인 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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제3항에 있어서, 상기 공기 흡입장치를 공기펌프로 구성할 경우, 플라즈마 흐름이 상승되는 경로를 공기는 통과하고 수분은 통과하지 않는 방수재로 된 차단막을 설치하여, 플라즈마 발생 공간의 압력을 낮추고 플라즈마의 피부 흡착효과를 높이고 피부 리프팅 효과를 상승시키는 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외벽의 단면의 형태는 원형, 선형, 또는 이들의 다중 조합으로 형성되는 대면적용 단면 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플라즈마 소스는 유전층 상하면에 상호 겹치지 않게 배열되는 두 개의 전극을 구비하고,상기 두 개의 전극 각각은 전원장치에서 출력되는 고전압 양단자와 각각 연결되며, 상기 전원장치는 DC-AC 인버터, 고전압 DC-컨버터 및 압전 트랜스포머를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 헤드부와 상기 몸체부가 일체형으로 구성되는 것을 특징으로 하는 피부 무자극 플라즈마 피부처리 장치
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