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마이크로파 온열기에 있어서,전원을 공급하는 전원 장치;사용자의 인체 조직 내 존재하는 환부를 치료하기 위한 마이크로파 온열기의 치료 모드를 입력받는 사용자 입력 장치; 및상기 사용자의 피부 표면에 부착된 n개의 패치를 통해 인체 조직의 심부에 열을 발생시키기 위한 마이크로파를 제어하는 마이크로파 제어 장치를 포함하고,상기 마이크로파 제어부는,상기 n개의 패치가 사용자의 피부 표면에 부착된 각 방향에서 조사되는 마이크로파의 위상이 상기 치료 모드에 따라 변환되도록 마이크로파를 제어하는 마이크로파 온열기
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제1항에 있어서,상기 마이크로파 제어 장치는,상기 마이크로파를 생성하는 마이크로파 생성부;상기 치료 모드에 기초하여 상기 마이크로파의 위상을 변환하는 위상 변환부;상기 위상이 변환된 마이크로파를 조사하기 위한 상기 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 스위칭하는 스위칭부; 및상기 스위칭된 적어도 하나의 조사 패치와 연결된 케이블을 통해 상기 위상이 변환된 마이크로파를 출력하는 마이크로파 출력부를 포함하는 마이크로파 온열기
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제1항에 있어서,상기 위상 변환부는,상기 각 방향에서 조사되는 마이크로파의 위상이 상기 치료 모드의 동작 시간 내 마이크로파를 출력하는 각 타이밍에 따라 일정한 간격의 위상차를 갖도록 마이크로파의 위상을 변환하는 마이크로파 온열기
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제3항에 있어서,상기 위상 변환부는,상기 각 타이밍에 따라 n개의 패치를 통해 출력되어야 하는 마이크로파의 위상에 대응하여 상기 생성된 마이크로파의 위상을 변환하는 마이크로파 온열기
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제1항에 있어서,상기 마이크로파의 위상은,상기 사용자의 피부 표면에서부터 인체 조직의 심부까지 발생되는 열의 발생 위치 및 분포 범위를 변화시키는 마이크로파 온열기
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제2항에 있어서,상기 스위칭부는,상기 각 타이밍에 대응하여 위상이 변환된 마이크로파가 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 통해 출력되도록 마이크로파의 조사 방향을 스위칭하는 마이크로파 온열기
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제2항에 있어서,상기 마이크로파 출력부는,상기 위상이 변환된 마이크로파를 증폭시키고, 증폭된 마이크로파를 상기 스위칭된 적어도 하나의 조사 패치와 연결된 케이블로 출력하는 마이크로파 온열기
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제1항에 있어서,상기 n개의 패치는,상기 치료 모드에 따라 위상이 변환된 마이크로파를 전달받고, 전달된 마이크로파를 상기 사용자의 피부 표면에서 인체 조직의 내부 방향으로 조사하는 마이크로파 온열기
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제8항에 있어서,상기 마이크로파는,상기 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 통해 조사되어 상기 인체 조직의 심부 내 발생되는 복수의 점에서 동일한 위상을 가지는 마이크로파 온열기
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마이크로파 온열기와 연결되는 패치에 있어서,상기 마이크로파 온열기와 연결된 케이블을 통해 전달된 마이크로파를 제어하는 표피 커버;상기 사용자의 인체 조직의 심부로 마이크로파를 전달하는 유전체로 이루어진 패치 안테나; 및상기 표피 커버에 접지되고, 상기 표피 커버에 의해 반사된 마이크로파를 패치 안테나로 전달하는 컨텍터를 포함하고,상기 조사 패치는,상기 마이크로파 온열기의 치료 모드를 기반으로 마이크로파를 출력하는 각 타이밍에 따라 일정한 간격의 위상차를 갖는 마이크로파를 상기 인체 조직의 심부로 조사하는 마이크로파 온열기와 연결되는 조사 패치
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제10항에 있어서,상기 표피 커버는,상기 사용자의 인체 조직의 심부로 조사되기 위한 상기 마이크로파의 누설을 차단시키거나 또는, 마이크로파를 심부로 반사시키는 마이크로파 온열기와 연결되는 조사 패치
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제10항에 있어서,상기 유전체는,상기 사용자의 피부 표면 사이에 전파 정합을 이루고, 상기 사용자의 피부 표면에서의 열교환에 의한 냉각 또는, 수냉을 제공하기 위한 매질을 포함하는 마이크로파 온열기와 연결되는 조사 패치
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제10항에 있어서,상기 패치 안테나의 일면은,상기 사용자의 피부 표면에 부착되도록 접착 물질이 도포된 마이크로파 온열기와 연결되는 조사 패치
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마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치에 있어서,사용자의 인체 조직 내 존재하는 환부를 치료하기 위한 마이크로파 온열기의 치료 모드에 기초하여 마이크로파를 생성하는 마이크로파 생성부;상기 치료 모드에 따른 사용자의 피부 표면에 부착된 n개의 패치의 각 방향에서 조사되는 마이크로파의 위상을 제어하는 위상 변환부;상기 위상이 제어된 마이크로파를 조사하기 위해 상기 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 스위칭하는 스위칭부;상기 위상이 변환된 마이크로파를 증폭시키는 마이크로파 증폭부; 및상기 스위칭된 적어도 하나의 조사 패치와 연결된 케이블로 상기 증폭된 마이크로파를 출력하는 마이크로파 출력부를 포함하는 상기 위상 변환부는,상기 각 방향에서 조사되는 마이크로파의 위상이 상기 치료 모드의 동작 시간 내 마이크로파를 출력하는 각 타이밍에 따라 일정한 간격의 위상차를 갖도록 마이크로파의 위상을 변환하는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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제14항에 있어서,상기 위상 변환부는,상기 각 타이밍에 따라 n개의 패치를 통해 출력되어야 하는 마이크로파의 위상에 대응하여 상기 생성된 마이크로파의 위상을 변환하는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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제14항에 있어서,상기 마이크로파의 위상은,상기 사용자의 피부 표면에서부터 인체 조직의 심부까지 발생되는 열의 발생 위치 및 분포 범위를 변화시키는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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제14항에 있어서,상기 스위칭부는,상기 각 타이밍에 대응하여 위상이 변환된 마이크로파가 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 통해 출력되도록 마이크로파의 조사 방향을 스위칭하는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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제14항에 있어서,상기 n개의 패치는,상기 치료 모드에 따라 위상이 변환된 마이크로파를 전달받고, 전달된 마이크로파를 상기 사용자의 피부 표면에서 인체 조직의 내부 방향으로 조사하는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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제18항에 있어서,상기 마이크로파는,상기 n개의 패치 중 적어도 하나의 조사 패치를 통해 조사되어 상기 인체 조직의 심부 내 발생되는 복수의 점에서 동일한 위상을 가지는 마이크로파 온열기에 포함된 마이크로파 제어 장치
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