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기판의 상면에 제1 감광제막을 형성하는 단계;제1 포토리소그래피 공정으로 상기 제1 감광제막을 패터닝하여 제1 홀을 형성하는 단계; 및상기 제1 홀을 통해 외부로 노출되는 상기 기판의 제1 식각부를 식각하여, 복수개의 나노다발들을 포함하는 제1 나노다발부를 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 나노다발부를 형성하는 단계는 상기 기판에 대하여 이방성 식각 특성을 갖는 식각액 내에 상기 기판을 제공하는 단계를 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판의 하면에 내산성 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 실리콘을 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 식각액은 질산은(AgNO3) 및 불산(HF)을 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판 및 상기 제1 나노다발부 상에 형상 전사 수지를 도포하여, 베이스부 및 상기 제1 나노다발부로부터 전사된 제2 나노다발부를 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 형상 전사 수지 도포 전에,상기 기판 및 상기 제1 나노다발부에 표면처리를 하는 단계를 더 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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7
제 5 항에 있어서,상기 베이스부 하면에 지지층을 부착하는 단계를 더 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판 및 상기 제1 나노다발부의 상면에 제2 감광제막을 형성하는 단계;제2 포토리소그래피 공정으로 상기 제2 감광제막을 패터닝하여 제2 홀을 형성하는 단계; 및상기 제2 홀을 통해 외부로 노출되는 상기 기판의 제2 식각부를 식각하여 베이스부를 형성하는 단계를 더 포함하되,패터닝된 상기 제2 감광제막은 상기 제1 나노다발부를 덮는 인쇄용 도장 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 베이스부 하면에 지지층을 부착하는 단계를 더 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1 나노다발부를 형성하는 단계는,은(Ag) 입자들이 상기 기판의 상면에 로딩되는 단계 및 상기 은 입자들을 촉매로 하여 불산(HF)이 상기 기판과 반응하는 단계를 포함하는 인쇄용 도장 제조방법
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