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박막 형성 방법 및 이에 의한 금속 산화 박막

기술번호 : KST2019003873
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	원자층 증착법을 이용한 박막 형성 방법 및 금속 산화 박막이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 의한 원자층 증착법을 이용한 박막 형성 방법은, 반응챔버에 전구체를 도입하는 단계, 반응챔버를 불활성 가스로 1차 퍼징하는 단계, 반응챔버에 란탄(La)을 포함하는 산화제를 도입하는 단계, 및 반응챔버를 불활성 가스로 2차 퍼징하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL	H01L 21/285 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC	H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01) H01L 21/28556(2013.01)
출원번호/일자	1020170135345 (2017.10.18)
출원인	한국표준과학연구원, 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2019-0043365 (2019.04.26) 문서열기
공고번호/일자	문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2017.10.18)
심사청구항수	4

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국표준과학연구원	대한민국	대전 유성구
2	한양대학교 산학협력단	대한민국	서울특별시 성동구

발명자

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번호	이름	주소
1	윤주영	서울특별시 양천구
2	김진태	대전광역시 유성구
3	안종기	대전광역시 대덕구
4	강고루	경기도 고양시 덕양구
5	박인성	서울특별시 강남구
6	오남근	대전광역시 중구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인다나	대한민국	서울특별시 강남구 역삼로 길 , 신관 층~층, *층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국표준과학연구원		대전 유성구
2	한양대학교 산학협력단		서울특별시 성동구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2017.10.18	수리 (Accepted)	1-1-2017-1027793-67
2	공지예외적용주장 증명서류 제출기한 안내문	2017.10.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2017-0150771-85
3	[공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서 [Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document	2017.10.24	수리 (Accepted)	1-1-2017-1048010-84
4	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2018.11.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2018.12.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2018-0154688-42
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266645-00
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266627-88
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266640-72
9	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2019.03.08	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0173773-82
10	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2019.05.08	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2019-0469211-18
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2019.05.08	수리 (Accepted)	1-1-2019-0469213-09
12	등록결정서 Decision to grant	2019.06.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0452477-94
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 반응챔버에 전구체를 도입하는 단계;상기 반응챔버를 불활성 가스로 1차 퍼징하는 단계;상기 반응챔버에 란탄(La)을 포함하는 산화제를 도입하는 단계; 및상기 반응챔버를 불활성 가스로 2차 퍼징하는 단계를 포함하며,상기 산화제는 La(NO3)3·6H2O이고,상기 La(NO3)3·6H2O의 농도는 10 내지 40wt%인 박막 형성 방법
2	2 삭제
3	3 삭제
4	4 제 1 항에 있어서,상기 전구체는 Al, Si, Ti, Hf, Ga, In, Y, La, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Fe, Ru, Ni, Zn, Cd, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, Ba, Sr, Se 및 Te에서 선택되는 어느 하나 이상의 물질을 포함하는 것인 박막 형성 방법
5	5 제 4 항에 있어서, 상기 전구체는 CpZr[N(CH3)2]3인 박막 형성 방법
6	6 제 5 항에 있어서,상기 1차 퍼징하는 단계 및 2차 퍼징하는 단계에서,상기 불활성 가스는 아르곤(Ar) 가스인 박막 형성 방법
7	7 삭제
8	8 삭제
9	9 삭제
10	10 삭제
11	11 삭제
12	12 삭제
13	13 삭제

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	미래창조과학부	한국표준과학연구원	한국표준과학연구원연구운영비지원	차세대 초박막 공정용 측정기술 개발
2	미래창조과학부	한국표준과학연구원	국가과학기술연구회연구운영비지원	미래 나노급 반도체 및 대면적 OLED를 위한 증착소재개발의 한계돌파를 위한 복합물성 측정 장비개발

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2017.10.18	수리 (Accepted)	1-1-2017-1027793-67
2	공지예외적용주장 증명서류 제출기한 안내문	2017.10.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2017-0150771-85
3	[공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서	2017.10.24	수리 (Accepted)	1-1-2017-1048010-84
4	선행기술조사의뢰서	2018.11.09	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	선행기술조사보고서	2018.12.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2018-0154688-42
6	출원인정보변경(경정)신고서	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266645-00
7	출원인정보변경(경정)신고서	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266627-88
8	출원인정보변경(경정)신고서	2018.12.27	수리 (Accepted)	4-1-2018-5266640-72
9	의견제출통지서	2019.03.08	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0173773-82
10	[명세서등 보정]보정서	2019.05.08	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2019-0469211-18
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2019.05.08	수리 (Accepted)	1-1-2019-0469213-09
12	등록결정서	2019.06.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0452477-94
13	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
14	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09

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