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챔버;상기 챔버 내측에 위치되어 기판을 지지하는 지지 유닛;상기 챔버에 연결되는 공급 라인;상기 공급 라인에 연결되어 초임계 상태의 초임계 유체와 공정액이 혼합된 상태의 혼합 처리액을 공급하는 초임계 유체 저장부; 및상기 공급 라인과 연결되고, 상기 초임계 유체 저장부로부터 상기 혼합 처리액을 전달받아 상기 챔버 내측으로 상기 혼합 처리액을 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고,상기 유체 공급 유닛은,상기 지지 유닛에 지지된 기판의 상부 영역에 상기 혼합 처리액을 공급하는 상부 유체 공급부와;상기 지지 유닛에 지지된 기판의 하부 영역에 상기 혼합 처리액을 공급하는 하부 유체 공급부를 포함하고,상기 하부 유체 공급부는 상기 상부 유체 공급부보다 먼저 상기 혼합 처리액을 공급하는 기판 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 공정액은 기판 세정 조성물인 기판 처리 장치
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제2항에 있어서,상기 기판 세정 조성물은 물(Water) 성분을 포함하지 않는 무수(anhydrous) 조성물로 제공되는 기판 처리 장치
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제2항에 있어서,상기 기판 세정 조성물은 불소를 제공하는 식각 화합물과; 상기 식각 화합물을 용해시키는 용매를 포함하는 기판 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 공정액은 알코올인 기판 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 챔버에 연결되어 상기 챔버를 배기하는 배기 부재; 및양단이 상기 배기 부재 및 상기 공급 라인에 연결되는 순환 라인을 더 포함하는 기판 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 상부 유체 공급부는,복수로 제공되고, 복수의 상기 상부 유체 공급부들은 상기 챔버의 상부에 제공되는 기판 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 챔버의 내측 공간 상부에 위치되는 샤워 헤드를 더 포함하는 기판 처리 장치
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초임계 상태의 초임계 유체와 공정액이 혼합된 상태의 혼합 처리액을 챔버가 가지는 처리 공간에서 지지되는 기판에 공급하여 초임계 상태에서 상기 기판을 처리하는 단계; 및초임계 상태의 상기 혼합 처리액을 배출하는 단계를 포함하고,상기 기판을 처리하는 단계에는,상기 기판의 하부 영역에 상기 혼합 처리액을 공급하고, 이후 상기 기판의 상부 영역에 상기 혼합 처리액을 공급하는 기판 처리 방법
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제9항에 있어서,상기 공정액은 물(Water) 성분을 포함하지 않는 무수(anhydrous) 조성물로 제공되는 기판 세정 조성물인 기판 처리 방법
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제9항에 있어서,상기 공정액은 불소를 제공하는 식각 화합물과, 상기 식각 화합물을 용해시키는 용매를 포함하는 기판 처리 방법
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제9항에 있어서,상기 공정액은 알코올인 기판 처리 방법
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챔버가 가지는 처리 공간에 지지된 기판으로 유체를 공급하여 기판을 처리하되,초임계 상태의 초임계 유체와 기판 세정 조성물이 혼합된 유체를 상기 기판에 공급하여 초임계 상태에서 상기 기판을 처리 하는 단계; 및초임계 상태의 초임계 유체와 용매가 혼합된 유체를 상기 기판에 공급하여 초임계 상태에서 상기 기판을 처리하는 단계를 포함하고,상기 유체는 상기 처리 공간에서 상기 기판의 하부 영역에 공급되고, 이후 상기 기판의 상부 영역에 공급되는 기판 처리 방법
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제13항에 있어서,상기 기판 세정 조성물은 물(Water) 성분을 포함하지 않는 무수(anhydrous) 조성물로 제공되는 기판 처리 방법
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제13항에 있어서,상기 용매는 알코올인 기판 처리 방법
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