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개시제를 이용한 화학 기상 증착법을 이용한 고분자 감압 접착제의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019004539
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 이용하여 친핵체 단량체와 친전자체 단량체 및 개시제를 연쇄 중합 반응 시켜 얇은 두께에서도 다양한 기재에 대한 우수한 접착력 및 다양한 조건에서의 우수한 저항성을 가지는 고분자 감압 접착제를 제조하는 방법을 제공하는데에 있다.
Int. CL C09J 7/20 (2018.01.01) C23C 16/452 (2006.01.01)
CPC C09J 7/38(2013.01) C09J 7/38(2013.01) C09J 7/38(2013.01) C09J 7/38(2013.01) C09J 7/38(2013.01)
출원번호/일자 1020170143041 (2017.10.31)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2037335-0000 (2019.10.22)
공개번호/일자 10-2019-0048251 (2019.05.09) 문서열기
공고번호/일자 (20191029) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.10.31)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임성갑 대전광역시 유성구
2 주문규 대전광역시 유성구
3 곽무진 대전광역시 유성구
4 문희연 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장제환 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)
2 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-1076458-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.05.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.08.07 수리 (Accepted) 9-1-2018-0040450-37
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0118670-54
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0358791-96
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.04.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0358792-31
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
8 등록결정서
Decision to grant
2019.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0526897-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 단계를 포함하는 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 이용한 고분자 감압 접착제(Pressure Sensitive Adhesive)의 제조방법:(a) iCVD 반응기에 기재를 위치시키고, 개시제의 존재 하에 상기 기재 상에 트리 알킬 아민기(trialkyl amine group) 또는 하이드록시기(hydroxyl group)를 포함하는 친핵체 단량체와 에폭시기(epoxy group) 또는 알킬 할라이드 작용기(alkyl halide group)를 포함하는 친전자체 단량체를 공급하여 상기 친핵체 단량체와 상기 친전자체 단량체의 공중합체를 형성하는 단계; 및(b) 상기 기재 상에 형성·증착된 공중합체를 열처리하여 경화시키는 단계
2 2
제1항에 있어서, 상기 친핵체 단량체는 또는 인 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 친전자체 단량체는 또는 (여기서, X=Cl, Br 또는 I이고, n은 1~10의 정수이다)인 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 개시제는 화학식 3 내지 화학식 7의 퍼옥사이드(peroxide) 화합물 및 벤조페논(benzophenone) 화합물로 구성된 군에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 친핵체 단량체는 N,N-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트(N,N-dimethylaminoethyl methacrylate, DMAEMA)이고, 상기 친전자체 단량체는 2-클로로에틸 아크릴레이트(2-chloroethyl acrylate, CEA)이며, 상기 고분자는 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 친핵체 단량체는 2-하이드록시에틸 아크릴레이트(2-hydroxyethyl acrylate, HEA)이고, 상기 친전자체 단량체는 알릴 글리시딜 에터(allyl glycidyl ether, AGE)이며, 상기 고분자는 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 트리 알킬 아민기(trialkyl amine group) 또는 하이드록시기(hydroxyl group)를 포함하는 친핵체 단량체와 에폭시기(epoxy group) 또는 알킬 할라이드 작용기(alkyl halide group)를 포함하는 친전자체 단량체의 투입량(몰비)는 1:1
8 8
제1항에 있어서, 상기 공중합체는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 또는 이중층 공중합체인 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 고분자 감압 접착제의 두께는 50 ~ 1200 nm 인 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 기재는 유리(glass), 고분자(polymer) 및 금속(metal)으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
11 11
제1항에 있어서 상기 열처리 단계는 90 ~ 120 ℃의 온도 조건에서 수행되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제 제조방법
12 12
트리 알킬 아민기(trialkyl amine group) 또는 하이드록시기(hydroxyl group)를 포함하는 친핵체 단량체와 에폭시기(epoxy group) 또는 알킬 할라이드 작용기(alkyl halide group)를 포함하는 친전자체 단량체의 공중합체가 기재 상에 증착되어 있되,상기 친핵체 단량체는 N,N-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트(N,N-dimethylaminoethyl methacrylate, DMAEMA)이고, 상기 친전자체 단량체는 2-클로로에틸 아크릴레이트(2-chloroethyl acrylate, CEA)이며, 상기 고분자는 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제
13 13
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트리 알킬 아민기(trialkyl amine group) 또는 하이드록시기(hydroxyl group)를 포함하는 친핵체 단량체와 에폭시기(epoxy group) 또는 알킬 할라이드 작용기(alkyl halide group)를 포함하는 친전자체 단량체의 공중합체가 기재 상에 증착되어 있되,상기 친핵체 단량체는 2-하이드록시에틸 아크릴레이트 (2-hydroxyethyl acrylate, HEA)이고, 상기 친전자체 단량체는 알릴 글리시딜 에터(allyl glycidyl ether, AGE)이며, 상기 고분자는 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제
17 17
제12항 또는 제16항에 있어서, 상기 접착제의 두께는 50 ~ 1200 nm 인 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제
18 18
제12항 또는 제16항에 있어서, 상기 기재는 유리(glass), 고분자(polymer) 및 금속(metal)으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 감압 접착제
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1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 이공분야기초연구사업 → 선도연구센터지원사업 → 이공학분야(S/ERC) 웨어러블 플랫폼소재 기술센터
2 과학기술정보통신부 한국과학기술원 원천기술개발사업 → 글로벌프론티어연구개발사업 → 나노기반 소프트 일렉트로닉스 연구 기상증착 고분자 기반 고성능 절연소재 개발