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투명한 기판 상에 형성된 산화물 박막층; 및상기 산화물 박막층 상에 형성된 항균층;을 포함하고,상기 산화물 박막층은, 투과성 및 내구성을 향상시키기 위해서 상기 기판 상에 형성된 제 1 산화물층; 및 상기 제 1 산화물층 상에 형성된 제 2 산화물층;을 포함하는,광학용 반사방지 필름
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 산화물층은 산화알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 상기 제 2 산화물층은 이산화규소(SiO2)를 포함하는,광학용 반사방지 필름
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 산화물층의 두께는 20㎚ 내지 25㎚이며, 상기 제 2 산화물층의 두께는 50㎚를 초과하며 80㎚ 이하인,광학용 반사방지 필름
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제 1 항에 있어서,상기 항균층은 이산화티타늄(TiO2)을 포함하며,상기 항균층의 두께는 4㎚ 내지 10㎚인,광학용 반사방지 필름
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제 1 항에 있어서,상기 기판의 표면 상에 산소 플라즈마 식각(O2 plasma etching) 방법을 이용하여 모스아이 패턴(moth-eye pattern)을 갖는,광학용 반사방지 필름
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스퍼터링(sputtering) 방법을 이용하여 투명한 기판 상에 산화물 박막층 및 항균층을 순차적으로 형성하는 단계를 포함하되,상기 산화물 박막층을 형성하는 단계는, 투과성 및 내구성을 향상시키기 위해서 상기 기판 상에 제 1 산화물층 및 제 2 산화물층을 순차적으로 형성하는 단계를 포함하는,광학용 반사방지 필름의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 기판 상에 산화물 박막층을 형성하는 단계 이전에, 산소 플라즈마 식각(O2 plasma etching) 방법을 이용하여 상기 기판의 표면 상에 모스아이 패턴(moth-eye pattern)을 형성하는 단계;를 포함하는,광학용 반사방지 필름의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 박막층, 상기 제 2 박막층 및 상기 항균층은 연속적으로 증착되되, 상기 제 1 산화물층의 두께는 20㎚ 내지 25㎚이며, 상기 제 2 산화물층의 두께는 50㎚를 초과하며 80㎚ 이하이고, 상기 항균층의 두께는 4㎚ 내지 10㎚로 증착하는,광학용 반사방지 필름의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 박막층은 산화알루미늄(Al2O3)을 포함하고, 상기 제 2 산화물층은 이산화규소(SiO2)를 포함하며, 상기 항균층은 이산화티타늄(TiO2)을 포함하는,광학용 반사방지 필름의 제조방법
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