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플라즈마 생성을 위한 RF 전력을 입사하는 RF 전원부;기 설정된 임피던스를 가지는 표준 부하와, 상기 RF 전력에 따른 플라즈마를 발생시키는 안테나-플라즈마 장치를 구비하는 부하 장치부; 및,상기 안테나-플라즈마 장치 또는 상기 표준 부하 중 어느 하나와 상기 RF 전원부를 연결하고, 상기 안테나-플라즈마 장치가 상기 RF 전원부와 연결되는 경우 상기 RF 전원부와 상기 안테나-플라즈마 장치의 임피던스를 정합시키는 정합부를 포함하며, 상기 정합부는,상기 안테나-플라즈마 장치와 상기 RF 전원부를 연결하기 전에 상기 표준 부하와 상기 RF 전원부를 연결하여 회로 내부의 기생 성분에 따른 기생 임피던스를 검출하고, 상기 기생 임피던스가 검출되면 상기 안테나-플라즈마 장치를 상기 표준 부하 대신 연결 및, 상기 검출된 기생 임피던스에 근거하여 상기 임피던스 정합에 필요한 리액턴스를 산출하고, 산출된 리액턴스에 따라 상기 정합부의 커패시터들의 용량을 변경하고,상기 안테나-플라즈마 장치가 상기 RF 전원부에 연결된 상태에서 측정되는 임피던스와 기 설정된 기준 정합 임피던스의 차이가 기 설정된 범위를 벗어나는 경우, 상기 정합부의 커패시터들의 용량을 상기 임피던스의 차이에 근거하여 변경하여 재정합을 수행하며,상기 재정합이 수행된 횟수가 기 설정된 횟수를 초과하는 경우 상기 기생 임피던스를 검출하기 위한 교정 과정이 필요한 것으로 판단 및 상기 교정 과정을 수행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서, 상기 정합부는, 상기 RF 전원부와 상기 안테나-플라즈마 장치가 연결되면, 상기 교정 과정의 수행이 필요한지 여부에 따라 상기 임피던스의 정합을 수행하거나, 또는 상기 안테나-플라즈마 장치 대신 상기 표준 부하를 상기 RF 전원부에 연결하여 상기 교정 과정을 통해 상기 기생 임피던스를 검출하며,상기 교정 과정이 수행이 필요한지 여부는, 기 검출된 기생 임피던스가 있는지 여부, 시스템이 초기화되었는지 여부 또는 사용자의 교정 과정 수행 선택이 있는지 여부에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서, 상기 정합부는, 상기 표준 부하가 상기 RF 전원부에 연결되는 경우 상기 표준 부하에 입사된 RF 전력에 대한 반사계수를 검출하고, 검출된 반사계수와 상기 표준 부하의 임피던스에 근거하여 상기 기생 임피던스를 검출하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제4항에 있어서, 상기 정합부는, 상기 정합부의 커패시터들의 용량을 달리하여 각각의 경우에 따른 서로 다른 반사계수를 적어도 2회 이상 검출하고, 검출된 반사계수들의 평균에 근거하여 상기 표준 부하가 상기 RF 전원부에 연결되었을 때의 반사계수를 산출하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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플라즈마를 발생시키는 안테나-플라즈마 장치가 RF 전원부에 연결될 때 상기 RF 전원부와 상기 안테나-플라즈마 장치의 임피던스를 정합시키는 정합부의 정합 방법에 있어서, 상기 안테나-플라즈마 장치 대신, 기 설정된 임피던스를 가지는 표준 부하에 상기 RF 전원부를 연결하여 회로 내부의 기생 성분에 따른 기생 임피던스를 검출하는 단계;기생 임피던스가 검출되면, 상기 RF 전원부와 상기 안테나-플라즈마 장치를 다시 연결하는 단계;상기 안테나-플라즈마 장치가 연결되면, 상기 안테나-플라즈마 장치에 입사되는 RF 전력에 따른 반사계수를 측정하는 단계;측정된 반사계수와 상기 검출된 기생 임피던스에 근거하여, 상기 임피던스의 정합에 필요한 리액턴스 값을 산출하는 단계; 산출된 리액턴스 값에 따른 리액턴스가 형성되도록, 상기 정합부에 구비된 가변 커패시터의 용량을 변경하여 상기 임피던스 정합을 수행하는 단계를 포함하며,상기 임피던스 정합을 수행하는 단계는, 상기 안테나-플라즈마 장치가 상기 RF 전원부에 연결된 상태에서 측정되는 임피던스와 기 설정된 기준 정합 임피던스의 차이를 검출하는 단계; 및,상기 검출된 임피던스의 차이가 기 설정된 범위를 벗어나는 경우, 상기 가변 커패시터의 용량을 상기 검출된 임피던스의 차이에 근거하여 변경하여 재정합을 수행하는 단계를 포함하고, 상기 재정합을 수행하는 단계는, 상기 재정합이 수행된 횟수가 기 설정된 횟수를 초과하는 경우, 상기 기생 임피던스를 검출하는 단계를 재수행하여 기생 임피던스를 재검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제6항에 있어서, 상기 기생 임피던스를 검출하는 단계 이전에, 상기 기생 임피던스의 검출이 필요한지 여부를 판단하는 단계를 더 포함하며, 상기 기생 임피던스의 검출이 필요한지 여부를 판단한 결과에 따라 상기 기생 임피던스를 검출하는 단계 및 상기 안테나-플라즈마 장치를 다시 연결하는 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제7항에 있어서, 상기 기생 임피던스의 검출이 필요한지 여부는, 기 검출된 기생 임피던스가 있는지 여부, 시스템이 초기화되었는지 여부 또는 사용자의 교정 과정 수행 선택이 있는지 여부에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제6항에 있어서, 상기 재정합을 수행하는 단계는, 상기 기생 임피던스가 재검출되면, 상기 안테나-플라즈마 장치를 다시 연결하는 단계와 상기 반사계수를 측정하는 단계를 다시 수행하는 재연결 단계; 상기 재검출된 기생 임피던스에 근거하여 상기 임피던스의 정합에 필요한 리액턴스 값을 다시 산출하는 단계; 및, 상기 다시 산출된 리액턴스 값에 따른 리액턴스가 형성되도록, 상기 정합부에 구비된 가변 커패시터의 용량을 변경하여 상기 임피던스 정합을 다시 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제6항에 있어서, 상기 기생 임피던스를 검출하는 단계는, 상기 표준 부하가 상기 RF 전원부에 연결되는 경우 입사된 RF 전력에 대응하는 상기 표준 부하에 대한 반사계수를 검출하는 단계; 및, 검출된 표준 부하에 대한 반사계수와 상기 표준 부하의 임피던스에 근거하여 상기 기생 임피던스를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제11항에 있어서, 상기 표준 부하에 대한 반사계수를 검출하는 단계는, 상기 가변 커패시터의 용량을 달리하여 각각의 경우에 따른 서로 다른 반사계수를 복수회 검출하는 단계; 및, 상기 검출된 반사계수들의 평균에 근거하여 상기 표준 부하에 대한 반사계수를 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정합 방법
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제1항에 있어서, 상기 정합부는, 상기 기생 임피던스가 검출되면 상기 안테나-플라즈마 장치를 상기 표준 부하 대신 연결 및 반사계수를 측정하고, 상기 검출된 기생 임피던스와 측정된 반사계수에 근거하여 안테나-플라즈마 임피던스를 계산하여 상기 임피던스 정합에 필요한 리액턴스를 산출하며, 산출된 리액턴스에 따라 상기 정합부의 커패시터들의 용량을 변경하여 상기 안테나-플라즈마 장치와 RF 전원부를 정합하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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