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시뮬레이션을 통해 생성되는 도장층 유전율별 투과율 정보를 갖는 데이터베이스(801); 도파관법 및 자유 공간법을 이용하여 도장층(430)의 유무에 따른 메타물질의 유전율별 투과율 정보를 획득하는 측정 모듈(810); 획득된 유전율별 투과율 정보와 상기 데이터베이스(801)에 저장된 도장층 유전율별 투과율 정보를 비교하는 비교 모듈(820); 및 비교 결과에 따라 상기 도장층의 유전물성의 유전율을 도출하는 유전율 산출 모듈(830);을 포함하며,상기 유전 물성은 전자기파에 대해 얇은 도장층의 유무에 따른 메타표면의 공진 주파수 변화이고,상기 메타물질은 특별한 전자기 특성 구현을 위해 인위적으로 설계된 물질인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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제 1항에 있어서, 상기 도장층(430)은 앞면에 도체판(110)이 형성되는 유전체 기판(120)의 후면에 형성되는 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 도체판(110)의 형태는 다각형인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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4
제 2 항에 있어서,상기 유전체 기판(120)의 두께는 1~3mm인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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제 2 항에 있어서,상기 유전체 기판(120)의 유전율은 4이하인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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삭제
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제 2 항에 있어서,상기 도체판(110)의 재질은 구리인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 도장층의 두께는 1mm이하인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 장치
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(a) 시뮬레이션을 통해 도장층 유전율별 투과율 정보를 갖는 데이터베이스(801)를 생성하는 단계; (b) 측정 모듈(810)이 도파관법 및 자유 공간법을 이용하여 도장층(430)의 유무에 따른 메타물질의 유전율별 투과율 정보를 획득하는 단계; (c) 비교 모듈(820)이 유전 물성에 해당하는 획득된 유전율별 투과율 정보와 상기 데이터베이스(801)에 저장된 도장층 유전율별 투과율 정보를 비교하는 하는 단계; 및 (d) 유전율 산출 모듈(830)이 비교 결과에 따라 상기 도장층의 유전물성의 유전율을 도출하는 단계;를 포함하며,상기 유전 물성은 전자기파에 대해 얇은 도장층의 유무에 따른 메타표면의 공진 주파수 변화이고,상기 메타물질은 특별한 전자기 특성 구현을 위해 인위적으로 설계된 물질인 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 도장층(430)은 앞면에 도체판(110)이 형성되는 유전체 기판(120)의 후면에 형성되는 것을 특징으로 하는 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 방법
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삭제
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제 9 항 또는 제 10 항 의 메타 물질을 이용한 도장층의 유전율 측정 방법을 실행하는 프로그램 코드를 저장한 컴퓨터 판독 가능 저장 매체
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