요약 | 본 발명은 반도체 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일측면에 따르면, 실리콘카바이드 상에 이중층 나노입자를 형성하는 방법이 제공된다. 실리콘카바이드 상에 이중층 나노입자를 형성하는 방법은, 실리콘카비이드로 형성된 반도체 상에 적어도 둘 이상의 금속을 적층하는 단계 및 상기 둘 이상의 금속이 적층된 반도체를 열처리하여 나노입자를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. |
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Int. CL | H01L 29/06 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01) |
CPC | H01L 29/0665(2013.01) H01L 29/0665(2013.01) H01L 29/0665(2013.01) H01L 29/0665(2013.01) H01L 29/0665(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020170154772 (2017.11.20) |
출원인 | 극동대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2019-0058738 (2019.05.30) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 공개 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | N |
심사청구항수 | 5 |