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모재에 폴리실라잔계 소재를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;상기 코팅층 상의 제1영역에 펄스자외선조사를 수행하여 상기 제1 영역을 경화하는 단계; 및상기 코팅층에서 상기 제1 영역 이외의 비경화 영역을 염기성 용매로 제거하여 현상하는 단계를 포함하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 2% 내지 20% 폴리실라잔계 소재 용액을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 500rpm 내지 1000rpm의 속도로 5초 내지 10초 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 경화하는 단계는 1800V 내지 2200V, 5Hz 내지 10Hz 및 80mJ/cm2 내지 100mJ/cm2 조건의 자외선을 80㎲ 내지 120㎲ 자외선 조사 및100ms 내지 200ms 자외선 비조사를 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 경화하는 단계는 펄스자외선을 80회 내지 150회 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 현상하는 단계는 상기 제1영역을 경화한 코팅층을 갖는 모재를 염기성 용매에 10초 내지 60초 침지하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제6항에 있어서,상기 염기성 용매는 5% 내지 20% TMAH 수용액, 5% 내지 20% NaOH 수용액 또는 5% 내지 20% 알콜 수용액을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층에서 상기 제1 영역 이외의 비경화 영역을 염기성 용매로 제거하여 현상하는 단계 다음에 제2차펄스자외선조사를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층에서 상기 제1 영역 이외의 비경화 영역을 염기성 용매로 제거하여 현상하는 단계 이후에, 상기 현상하는 단계에서 현상된 박막을 추가 경화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제9항에 있어서,상기 추가 경화하는 단계는 화학적 경화, 스팀 경화 또는 펄스자외선경화를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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제10항에 있어서,상기 추가 경화하는 단계에서, 상기 펄스자외선조사는 1800V 내지 4000V, 5Hz 내지 10Hz 및 2J/cm2 내지 8J/cm2 조건의 자외선을 80㎲ 내지 120㎲ 자외선 조사 및100ms 내지 200ms 자외선 비조사를 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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12
제10항에 있어서,상기 추가 경화하는 단계에서, 상기 펄스자외선조사는 펄스자외선을 800회 내지 3000회 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실라잔계 박막 패턴 제조방법
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