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고해상도 태양 기준 스펙트럼 및 GEMS(Geostationary Environmental Monitoring Spectrometer)의 SRF(Spectral Response Function)에 기초하여 시뮬레이션된 기준 스펙트럼을 결정하는 단계;상기 GEMS을 통해, 상기 고해상도 태양 기준 스펙트럼에 대한 측정 스펙트럼을 획득하는 단계; 및상기 기준 스펙트럼 및 상기 측정 스펙트럼 간 차이가 최소화되도록 스펙트럼 피팅을 수행하는 단계를 포함하고,상기 스펙트럼 피팅은복사 조도 및 복사 휘도에 대한 분광 보정하는 과정이고,상기 복사 조도에 대한 분광 보정은시프트 다항식에 기반한 SRF 피팅에 기초하여 수행되는 분광 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 스펙트럼 피팅을 수행하는 단계는상기 기준 스펙트럼 및 상기 측정 스펙트럼 간 차이가 임계 기준보다 큰 경우, 스펙트럼 파라미터를 업데이트하는, 분광 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 스펙트럼 피팅을 수행하는 단계는상기 고해상도 태양 기준 스펙트럼에 대한 자코비안을 계산하는 단계;상기 계산된 자코비안에 기초하여 스펙트럼 파라미터를 계산하는 단계;상기 계산된 스펙트럼 파라미터를 상기 고해상도 태양 기준 스펙트럼에 적용하여 상기 측정 스펙트럼과 비교하는 단계;수렴 조건 내에서 상기 기준 스펙트럼 및 상기 측정 스펙트럼 간의 차이가 최소가 될 때의 스펙트럼 파라미터의 값을 결정하는 단계; 및상기 결정된 스펙트럼 파라미터의 값에 기초하여 새로운 파장격자 정보를 다항식 계수로 제공하는 단계를 포함하는, 분광 보정 방법
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제3항에 있어서,상기 스펙트럼 파라미터는기준 태양 스펙트럼, SRF, 시프트, 스퀴즈, SNR, 피팅 윈도우 중 적어도 하나를 포함하는, 분광 보정 방법
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제4항에 있어서,상기 스펙트럼 파라미터는 상기 SRF의 폭 및 형태의 변동을 포함하는, 분광 보정 방법
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제3항에 있어서,상기 비교하는 단계는카이 제곱(chi-square)을 이용하여 상기 계산된 스펙트럼 파라미터의 값이 적용된 고해상도 태양 기준 스펙트럼 및 상기 측정 스펙트럼을 비교하는, 분광 보정 방법
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제6항에 있어서,상기 카이 제곱은 비선형 최소자승 피팅(non-linear least square fitting)에 대한 각 파라미터의 자코비안 및 오차 공분산을 이용하는 리븐버그-마크워트(Levenberg-Marquardt) 기법에 의해 최소화되는, 분광 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 기준 스펙트럼을 결정하는 단계는비대칭 및 확장 가우시안 또는 슈퍼 가우시안을 이용하여 상기 기준 스펙트럼을 결정하는, 분광 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 복사 휘도에 대한 분광 보정은 파장 할당 및 스펙트럼 피팅의 조합에 기반하여 수행되는 분광 보정 방법
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제11항에 있어서,상기 복사 휘도에 대한 분광 보정은 대기 흡수(atmospheric absorption), 레일리 산란(rayleigh scattering), 링 효과(ring effect) 중 적어도 하나에 기초하여 수행되는, 분광 보정 방법
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프로세서; 및상기 프로세서에 의해 실행 가능한 적어도 하나의 명령어를 포함하는 메모리를 포함하고,상기 적어도 하나의 명령어가 상기 프로세서에서 실행되면, 상기 프로세서는 고해상도 태양 기준 스펙트럼 및 GEMS의 SRF에 기초하여 시뮬레이션된 기준 스펙트럼을 결정하고, 상기 GEMS을 통해 상기 고해상도 태양 기준 스펙트럼에 대한 측정 스펙트럼을 획득하며, 상기 기준 스펙트럼 및 상기 측정 스펙트럼 간 차이가 최소화되도록 스펙트럼 피팅을 수행하고,상기 스펙트럼 피팅은복사 조도 및 복사 휘도에 대한 분광 보정하는 과정이고,상기 복사 조도에 대한 분광 보정은시프트 다항식에 기반한 SRF 피팅에 기초하여 수행되는분광 보정 장치
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