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고분자 소재, 2차원 박리층, 및 기판이 순차적으로 적층된 박리기판을 준비하는 단계(S1);상기 박리기판에 2차원 소재를 300℃ 이하의 온도에서 적층하는 단계(S2);상기 S2 단계에서 적층된 2차원 소재 위에 전극을 증착한 후, 보호층을 합성하는 단계(S3);상기 S3 단계에서 보호층을 합성한 후, 패터닝하는 단계(S4);상기 S4 단계에서 패터닝 이후 박리기판에서 2차원 박리층 및 기판 사이를 분리하는 단계(S5); 및,상기 S5 단계 이후에, 보호층 위에 지지 필름을 부착하는 단계를 포함하여 이루어지고,상기 S1 단계의 기판과 2차원 박리층은 반데르발스(van der Waals) 힘으로 결합되며,상기 S5 단계의 분리는 기판에 물 또는 기계적 박리법을 처리하는 방법을 통해 수행되고,상기 고분자 소재는 폴리디메틸실록산 또는 폴리테트라 플루오로에틸렌이며,상기 2차원 박리층 및 2차원 소재는 이황화몰리브덴인 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 금속, 고분자, 또는 복합 소재인 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전극은 전도성 소재 또는 금속 소재인 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 증착은 리소그래피, 레이저 식각 및 섀도마스크법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 보호층은 고분자, 산화물, 유기소재 또는 복합소재를 CVD(chemical vapor deposition), PVD(Physical vapor deposition), ALD(Atomic layer depostion), 및 증착(evaporation)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법으로 합성되는 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 지지 필름은 비스페놀 A 노볼락 에폭시 필름, 의료용 필름, 실리콘 필름(Ecoflex), 폴리디메틸실록산 필름(PDMS), 및 열가소성우레탄 필름(TPU)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제조방법은 단일공정(one-step)으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 신축소자의 제조방법
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제1항의 방법을 통해 제조된 신축소자
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제13항의 신축소자를 포함하는 센서
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제13항의 신축소자를 포함하는 트랜지스터
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