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진공 반응기(510); 및반응 가스를 공급받아 플라즈마 반응을 하는 제 1 튜브와, 상기 제 1 튜브와 나란히 배열되며 상기 제 1 튜브로부터 반응후 생성된 배출 가스를 배출하는 제 2 튜브로 이루어지는 다수의 튜브(101)가 격자형 배열 구조로 배치되어 상기 진공 반응기(510) 내측의 공정 기판(110)을 증착 또는 에칭하는 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100);를 포함하며,상기 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100)와 공정 기판(110) 사이에 설치되는 그리드 전극판(900);을 포함하며,상기 제 1 튜브는 반응유닛(210)이 되고, 제 2 튜브는 배출구(220)가 되며,상기 기판(110)의 표면상에 격자 형태로 배열되는 다수의 히터(720);를 포함하고,상기 다수의 히터(720)는 각각 개별적으로 온도 제어가 되는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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◈청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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◈청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서,상기 다수의 튜브(101) 중 일부 튜브의 일측 말단과 연통되어 반응 가스를 공급하기 위한 가스 공급 매니폴드(610);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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제 1 항에 있어서,상기 다수의 튜브(101) 중 일부 튜브의 일측 말단과 연통되어 반응후 배출 가스를 배출하기 위한 가스 배출 매니폴드(620);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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◈청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서,상기 다수의 히터(720)는 흑연, 스테인리스 스틸, 및 텅스텐 중 어느 하나의 전도체인 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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제 1 항에 있어서,상기 다수의 히터(720)에는 상기 반응 가스로부터의 부식 반응을 방지하기 위해 표면에 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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◈청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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◈청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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◈청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서,상기 반응 가스는 증착 공정시 SiH4, Si2H6, SiCl4, SiHCl3, SiF4 중 선택된 1종 이상을 H2 또는 He 가스에 희석시킨 가스인 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응 가스는 에칭 공정시 C4F8, NF3, SF6, Ar, O2 중 선택된 1종 이상을 혼합한 가스인 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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제 1 항에 있어서,상기 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100), 그리드 전극판(900) 및 기판(110) 사이의 거리를 조절하기 위해 상기 그리드 전극판(900)의 위치를 변경하는 위치 이동 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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◈청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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◈청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 반응을 위한 플라즈마 주파수는 13
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제 1 항에 있어서,상기 에칭시 공정 압력은 1 내지 100mTorr이고, 증착시 공정 압력은 50mTorr 내지 760Torr인 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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◈청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,배기 유속 및 반응기 내 압력을 조절하기 위해 상기 반응기(510)의 가스 배출구와 펌프 사이에 스로틀 밸브(throttle valve)가 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치
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반응 가스를 공급받아 플라즈마 반응을 하는 제 1 튜브와, 상기 제 1 튜브와 나란히 배열되며 상기 제 1 튜브로부터 반응후생성된 배출 가스를 배출하는 제 2 튜브로 이루어지는 다수의 튜브(101)를 준비하는 단계;상기 다수의 튜브(101)를 격자형 배열 구조로 배치하여 증착 또는 에칭하는 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100)를 형성하는 단계; 및증착 또는 에칭되는 공정 기판(110)이 내측에 위치하는 진공 반응기(510)에 상기 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100)를 설치하는 단계;를 포함하며,그리드 전극판(900)이 상기 진공 플라즈마 유닛 어셈블리(100)와 공정 기판(110) 사이에 설치되며, 상기 제 1 튜브는 반응유닛(210)이 되고, 제 2 튜브는 배출구(220)가 되며,상기 기판(110)의 표면상에 다수의 히터(720)가 격자 형태로 배열되고,상기 다수의 히터(720)는 각각 개별적으로 온도 제어가 되는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 반응 장치의 제작 방법
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